V_2O_5/V/V_2O_5复合膜的制备及其光电性能研究

文章采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了V2 O5/V/V2 O5复合膜，通过改变中间层钒的溅射时间，制备了3组薄膜。所有薄膜均在450℃空气气氛中退火60 min。用四探针测试仪测试了薄膜的电学性能，用X射线衍射仪对薄膜的结构组分进行分析。实验结果表明，当V层溅射时间为25 min时，经450℃退火后的薄膜方块电阻为38．5 kΩ，电阻温度系数为-0．0218 K -1，在700～1400 nm波段红外吸光度均在0．6以上，符合非致冷微测辐射热计的应用要求。

晶态WO_3电致变色薄膜和器件的制备及性能研究

文章用射频磁控反应溅射法,以钨靶为溅射靶材,在玻璃和ITO衬底上分别制备了WO3薄膜,氧气和氩气的流量比值为5∶25,工作气压为1.5Pa,所有样品均进行了400℃保温1h的退火。通过改变溅射功率,研究了功率对WO3薄膜的相组成、表面形貌、可见光透过率的影响,最终得到溅射功率为100~70 W的WO3晶态薄膜的电致变色性能最好。

辐射制冷高反射Ag薄膜的腐蚀条件及防护

高反射Ag薄膜在空气中易老化,通过改变环境中的湿度、温度、反应气体浓度三个条件对Ag薄膜的腐蚀行为进行研究。结果显示:Ag薄膜试样在60℃,90%RH大气环境中12 d后的黄边占比为7.2%,湿度对Ag薄膜腐蚀的影响最显著,温度次之。反应气体浓度降低到水中溶解度时对Ag薄膜的腐蚀抑制效果明显。SiNx/Ag-Cu/SiNx膜系结构可以减少水汽吸附,延缓反应气体在薄膜中的扩散并阻隔水汽,实现对Ag薄膜的防护。在60℃,90%RH大气环境中12 d后,SiNx/Ag-Cu/SiNx反射膜未观察到腐蚀。

辐射制冷膜Ag反射层在高温高湿条件下的腐蚀机理

针对高反射Ag薄膜在高温高湿条件下的快速老化问题,利用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)及X射线衍射仪(XRD)对60℃、90%RH条件下的老化样品进行测试分析。结果显示:在60℃、90%RH大气条件下老化1 d, Ag薄膜开始出现腐蚀,腐蚀产物主要为Ag_(2)O。对比常温大气条件下的腐蚀产物和腐蚀速率,结果表明:60℃、90%RH高温高湿条件下Ag薄膜发生的腐蚀为电化学腐蚀,常温大气条件下Ag薄膜的腐蚀为纯化学腐蚀,两者腐蚀机理不同。

PET基材上介质保护层对高反射银膜性能的影响

为了解决纯银高反射膜耐候性不佳、附着力差的问题,在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基材上制备了Al_(2)o_(3)/Ag/CrN结构,通过多组对照试验评估保护层对反射银膜耐候性和力学性能的影响。结果表明:Al_(2)o_(3)前保护层显著提高了反射膜的耐腐蚀性能;CrN后保护层提高了膜层的附着力性能;综合耐候性、反射率、附着力等性能,PET/Al_(2)o_(3)/Ag/CrN膜层中Al_(2)o_(3)优选厚度为10 nm,CrN优选厚度为20 nm。

Ar-N_(2)混合气体中N_(2)含量对磁控溅射Ag膜性能的影响

以不同N_(2)含量Ar-N_(2)混合气体为溅射气体在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基膜上磁控溅射制备Ag膜,研究了N_(2)含量对Ag膜动态沉积率、耐盐雾腐蚀性能和反射率的影响。结果表明:随着N_(2)含量增加,制备的Ag膜的晶粒尺寸逐渐减小,在盐雾中的腐蚀速率逐渐降低,动态沉积率和反射率均逐渐降低;综合生产效率和各项性能,优选N_(2)体积分数为20%的Ar-N_(2)混合气体溅射Ag膜工艺,其动态沉积率为纯Ar制备Ag膜的95%,反射率也由纯Ar制备Ag膜的93.8%降低至93.4%,在盐雾中的腐蚀速率降为纯Ar制备Ag膜的22%左右。