三氟化氮纯化的新工艺

三氟化氮作为等离子蚀刻剂和化学气相沉积室的清洗气体,可根据粗三氟化氮气体中各组分的沸点及物理、化学性质的差异选择不同的纯化工艺及设备。研究了冷阱法、吸附法、改进的吸附法3种纯化工艺的优缺点,并提出了一种新的纯化工艺,即用碱液清除酸性杂质及用精馏的方法排除轻组分与残余重组分。实验结果表明,新的纯化工艺可获得三氟化氮体积分数大于99.9%的高纯度产品,从而能够满足半导体工业的要求。