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先天性智能发育不全患儿的细胞遗传学研究
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作者 王怀立 高冬培 +2 位作者 王玉英 王应太 高铁铮 《河南医学研究》 CAS 1995年第3期210-213,共4页
用低叶酸培养基(TC199)对90例先天性智能发育不全(MR)患儿的外周血淋巴细胞进行了G显带分析及脆性X染色体研究。发现19例染色体异常患者,占21.11%。其中先天愚型14例,占15.56%;其它常染色体结构异常... 用低叶酸培养基(TC199)对90例先天性智能发育不全(MR)患儿的外周血淋巴细胞进行了G显带分析及脆性X染色体研究。发现19例染色体异常患者,占21.11%。其中先天愚型14例,占15.56%;其它常染色体结构异常2例;性染色体异常1例;脆性X染色体2例,占2.22%。结果表明对MR进行细胞遗传学研究时,不仅要注意染色体数目及结构的异常,尤应进行脆性X染色体的检测。本文首次证明脆性X综合征在本地区的存在,在MR中所占的比例与国外报道大致相同。脆性X染色体的诱导方法进行了讨论。还发现1例MR患儿,核型为46,XY,t(5;15)(p15;q13),经鉴定为世界首报核型。 展开更多
关键词 智力低下 脆性X综合征 细胞遗传学 儿童
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