通过荧光光谱法研究了铕(Ⅲ)、铽(Ⅲ)两种稀土离子对四(3,4-亚甲二氧基苯基)卟啉(T M PP)荧光强度的影响。在中性介质中,铕(Ⅲ)和铽(Ⅲ)与T M PP相互作用使T M P P的荧光猝灭。实验表明:以DMF为溶剂、420 nm为最大激发波长、655nm为最...通过荧光光谱法研究了铕(Ⅲ)、铽(Ⅲ)两种稀土离子对四(3,4-亚甲二氧基苯基)卟啉(T M PP)荧光强度的影响。在中性介质中,铕(Ⅲ)和铽(Ⅲ)与T M PP相互作用使T M P P的荧光猝灭。实验表明:以DMF为溶剂、420 nm为最大激发波长、655nm为最大发射波长时,T MPP的荧光强度和稀土离子对其荧光猝灭均达到最大值。展开更多
文摘通过荧光光谱法研究了铕(Ⅲ)、铽(Ⅲ)两种稀土离子对四(3,4-亚甲二氧基苯基)卟啉(T M PP)荧光强度的影响。在中性介质中,铕(Ⅲ)和铽(Ⅲ)与T M PP相互作用使T M P P的荧光猝灭。实验表明:以DMF为溶剂、420 nm为最大激发波长、655nm为最大发射波长时,T MPP的荧光强度和稀土离子对其荧光猝灭均达到最大值。
