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基于解开操作的直角多边形随机生成算法
被引量:
1
1
作者
沈聪
陆伟成
魏晗一
《计算机工程》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第6期269-271,共3页
集成电路物理设计的测试需随机生成直角多边形以覆盖所有的情况。基于此,提出一种基于解开操作的直角多边形随机生成算法,可应用于超大规模集成电路物理设计算法的测试和分析。该算法随机生成一个点序列,逐一将每对相交的线段解开,直至...
集成电路物理设计的测试需随机生成直角多边形以覆盖所有的情况。基于此,提出一种基于解开操作的直角多边形随机生成算法,可应用于超大规模集成电路物理设计算法的测试和分析。该算法随机生成一个点序列,逐一将每对相交的线段解开,直至找不到任何相交线段。对该算法的有穷性作出证明,并以实验证明该算法简单有效。
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关键词
直角多边形
随机生成
解开操作
电子设计自动化
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职称材料
一种用于双成像光刻中的版图分解算法
2
作者
魏晗一
陆伟成
《复旦学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第1期129-138,共10页
双成像光刻技术是在集成电路制造工艺不断缩小时解决光刻后图形失真问题和提高准确度的最有效的方案之一.在双成像光刻中,需要进行版图分解,将版图中多边形分解为更简单的图形的集合.现有的多边形分解算法不适合应用于双成像光刻,会产...
双成像光刻技术是在集成电路制造工艺不断缩小时解决光刻后图形失真问题和提高准确度的最有效的方案之一.在双成像光刻中,需要进行版图分解,将版图中多边形分解为更简单的图形的集合.现有的多边形分解算法不适合应用于双成像光刻,会产生工艺无法接受的薄片,覆盖误差会导致图形断开,与双成像光刻中的版图分解的目标也不同.提出了一种新的版图分解算法,通过引入交叠,消除薄片的产生,同时解决由于覆盖误差引起的图形断开问题;减少分解后的矩形数目,从而减少双成像光刻中颜色分配后的冲突总数,适合用于双成像光刻技术.实验说明该算法有效.
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关键词
双成像光刻技术
版图分解算法
引入交叠
原文传递
题名
基于解开操作的直角多边形随机生成算法
被引量:
1
1
作者
沈聪
陆伟成
魏晗一
机构
复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室
出处
《计算机工程》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第6期269-271,共3页
文摘
集成电路物理设计的测试需随机生成直角多边形以覆盖所有的情况。基于此,提出一种基于解开操作的直角多边形随机生成算法,可应用于超大规模集成电路物理设计算法的测试和分析。该算法随机生成一个点序列,逐一将每对相交的线段解开,直至找不到任何相交线段。对该算法的有穷性作出证明,并以实验证明该算法简单有效。
关键词
直角多边形
随机生成
解开操作
电子设计自动化
Keywords
rectilinear polygon
random generation
untangling
electronic design automation
分类号
TP311 [自动化与计算机技术—计算机软件与理论]
下载PDF
职称材料
题名
一种用于双成像光刻中的版图分解算法
2
作者
魏晗一
陆伟成
机构
复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室
出处
《复旦学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第1期129-138,共10页
文摘
双成像光刻技术是在集成电路制造工艺不断缩小时解决光刻后图形失真问题和提高准确度的最有效的方案之一.在双成像光刻中,需要进行版图分解,将版图中多边形分解为更简单的图形的集合.现有的多边形分解算法不适合应用于双成像光刻,会产生工艺无法接受的薄片,覆盖误差会导致图形断开,与双成像光刻中的版图分解的目标也不同.提出了一种新的版图分解算法,通过引入交叠,消除薄片的产生,同时解决由于覆盖误差引起的图形断开问题;减少分解后的矩形数目,从而减少双成像光刻中颜色分配后的冲突总数,适合用于双成像光刻技术.实验说明该算法有效.
关键词
双成像光刻技术
版图分解算法
引入交叠
Keywords
double patterning technology layout fracturing algorithm introduce overlap
分类号
TN47 [电子电信—微电子学与固体电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于解开操作的直角多边形随机生成算法
沈聪
陆伟成
魏晗一
《计算机工程》
CAS
CSCD
北大核心
2011
1
下载PDF
职称材料
2
一种用于双成像光刻中的版图分解算法
魏晗一
陆伟成
《复旦学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2013
0
原文传递
已选择
0
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