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“互联网+”背景下材料学科大学生创新创业教育模式探究 被引量:6
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作者 周科朝 魏秋平 +3 位作者 蔡圳阳 马莉 邓泽军 王剑 《高教学刊》 2024年第1期55-58,共4页
在“互联网+”的新时代背景下,随着国民经济结构的升级换代和产业结构的不断优化,高校肩负着培养创新创业型优秀人才的重任,要加强创新创业教育改革,培养学生的创新创业意识,提高创新创业能力。目前高校创新创业教育实践中尚存在创业扶... 在“互联网+”的新时代背景下,随着国民经济结构的升级换代和产业结构的不断优化,高校肩负着培养创新创业型优秀人才的重任,要加强创新创业教育改革,培养学生的创新创业意识,提高创新创业能力。目前高校创新创业教育实践中尚存在创业扶持政策不完善、高校创新创业教育体系待优化、大学生综合创新能力不足等问题,该文以材料学科为背景提出进一步加大创新创业政策扶持力度、强化政策宣传与落实力度、加强创新创业师资队伍建设、构建学科支撑的创新创业课程体系、搭建大学生产教融合创新创业平台等解决策略,通过高校、社会、政府三方协同构建大学生创新创业教育新模式,促进大学生创新创业教育更好更快地发展。 展开更多
关键词 材料学科 创新创业教育 “互联网+” 大学生创业 实用型人才
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Ti基镶嵌金刚石颗粒掺硼金刚石电极及其性能 被引量:1
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作者 窦金杰 刘典宏 +3 位作者 蒋鸾 李静 马莉 魏秋平 《粉末冶金材料科学与工程》 2024年第1期45-52,共8页
利用粉末压片机在Ti片表面镶嵌金刚石颗粒,以此为衬底,通过热丝化学气相沉积技术沉积掺硼金刚石(boron-doped diamond, BDD)薄膜,制备新型Ti基镶嵌金刚石颗粒BDD (Ti/D/BDD)电极,并制备Ti基BDD (Ti/BDD)电极作为对比。采用扫描电子显微... 利用粉末压片机在Ti片表面镶嵌金刚石颗粒,以此为衬底,通过热丝化学气相沉积技术沉积掺硼金刚石(boron-doped diamond, BDD)薄膜,制备新型Ti基镶嵌金刚石颗粒BDD (Ti/D/BDD)电极,并制备Ti基BDD (Ti/BDD)电极作为对比。采用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪和电化学工作站表征电极的形貌、B掺杂水平和电化学性能,利用紫外可见分光光度计测试电极模拟废水降解的效果。结果表明:沉积时间相同时,Ti/D/BDD电极比Ti/BDD电极具有更大的电化学活性面积,更低的薄膜阻抗,使得电极对酸性橙G表现出更高的降解速率,更低的降解能耗。沉积10 h时,Ti/D/BDD电极具有最高的双电层电容(1.87 mF),最低的薄膜电阻(0.4?);降解120 min后,Ti/D/BDD电极的色度移除率比Ti/BDD电极最高可提升53.1%,同时能耗降低14.2%。 展开更多
关键词 BDD电极 Ti基体 金刚石颗粒 电化学性能 废水降解
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金刚石粒径对金刚石/Cu-B合金复合材料热物理性能的影响
3
作者 王熹 康翱龙 +8 位作者 焦增凯 康惠元 吴成元 周科朝 马莉 邓泽军 王一佳 余志明 魏秋平 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2024年第2期169-178,共10页
采用Cu-B合金为基体,选用粒径分别为110、230、550μm的金刚石颗粒作为增强体,利用气压熔渗工艺在1100℃、10 MPa气体压力下制备金刚石/Cu-B合金复合材料,研究金刚石颗粒粒径对复合材料组织结构、界面相分布及热物理性能的影响。结果表... 采用Cu-B合金为基体,选用粒径分别为110、230、550μm的金刚石颗粒作为增强体,利用气压熔渗工艺在1100℃、10 MPa气体压力下制备金刚石/Cu-B合金复合材料,研究金刚石颗粒粒径对复合材料组织结构、界面相分布及热物理性能的影响。结果表明,随着金刚石粒径的增大,复合材料热导率上升,热膨胀系数减小,复合材料界面处硼碳化合物含量增加,界面结合情况得到改善。由金刚石颗粒粒径为550μm时,复合材料热导率最高,可达680.3 W/(m·K),热膨胀系数最小,为4.905×10^(−6)K^(−1),符合高效热管理器件对金刚石/金属基复合材料的热物理性能要求,在电子产品散热器件方面具有良好的应用前景。 展开更多
关键词 热导率 金刚石粒径 气压熔渗 热膨胀系数 金刚石/Cu-B复合材料
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真空蒸镀钨改性金刚石/铜硼复合材料导热性能
4
作者 吴成元 王熹 +5 位作者 周科朝 焦增凯 姚远卓 吴建杰 马莉 魏秋平 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第7期2293-2303,共11页
采用真空蒸镀法在平板金刚石衬底表面镀覆钨镀层,构建多层平板结构以研究热处理温度对金刚石表面钨界面层形貌结构、物相成分及其与金刚石基体间界面结合情况的影响,并为金刚石颗粒表面金属化改性提供实验指导。在此基础上,以相同真空... 采用真空蒸镀法在平板金刚石衬底表面镀覆钨镀层,构建多层平板结构以研究热处理温度对金刚石表面钨界面层形貌结构、物相成分及其与金刚石基体间界面结合情况的影响,并为金刚石颗粒表面金属化改性提供实验指导。在此基础上,以相同真空蒸镀和热处理工艺制备的钨改性金刚石颗粒作为增强体,以铜硼合金作为基体,采用气体压力浸渗法制备相应的金刚石/铜硼复合材料,探究金刚石颗粒的热处理温度对复合材料导热性能的影响。结果表明:随着热处理温度的升高,复合材料热导率呈现先上升后下降的趋势,当热处理温度为1000℃时,复合材料界面结合明显改善,同时金刚石表面钨镀层依旧连续完整,此时,复合材料的热导率最高可达629 W/(m∙K)。 展开更多
关键词 真空蒸镀 界面改性 钨镀层 热导率 金刚石/铜基复合材料
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掺硼浓度与沉积气压对Ti/BDD微观结构和电化学氧化性能影响规律研究
5
作者 刘典宏 尹钊 +3 位作者 陈峰磊 马莉 李静 魏秋平 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2024年第2期151-160,共10页
探究在热丝化学气相沉积生长硼掺杂金刚石的过程中,掺硼浓度与沉积气压对钛基硼掺杂金刚石薄膜的微观结构与电化学氧化性能的影响,并以四环素作为模拟污染物进行电化学氧化降解实验。使用扫描电子显微镜、拉曼光谱、紫外分光光度计以及... 探究在热丝化学气相沉积生长硼掺杂金刚石的过程中,掺硼浓度与沉积气压对钛基硼掺杂金刚石薄膜的微观结构与电化学氧化性能的影响,并以四环素作为模拟污染物进行电化学氧化降解实验。使用扫描电子显微镜、拉曼光谱、紫外分光光度计以及电化学工作站对电极表面形貌、成分以及电化学性能进行表征。结果表明:随着掺硼浓度与沉积气压的增大,金刚石薄膜表面晶粒明显细化,生长速率下降;然而随着沉积气压的升高,金刚石的晶粒质量逐渐降低,但硼原子掺杂则会提高金刚石晶粒质量;在高掺硼浓度和低沉积气压的条件下,金刚石薄膜表面的硼原子浓度更高;高掺硼浓度和低沉积气压下所生成的较大晶粒尺寸和更高硼原子浓度的硼掺杂金刚石电极具有更优越的电化学性能、更高的降解效率以及更低的降解能耗。 展开更多
关键词 钛基硼掺杂金刚石薄膜电极 电化学氧化 掺硼浓度 沉积气压 四环素
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泡沫SiC基亚氧化钛电极的制备及电催化氧化酸性橙G的性能
6
作者 余章俊 王项 +2 位作者 邓泽军 马莉 魏秋平 《粉末冶金材料科学与工程》 2024年第3期221-230,共10页
采用溶胶−凝胶烧结法制备三维泡沫SiC基亚氧化钛(SiC/Ti_(n)O_(2n−1))电极。采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和电化学工作站表征亚氧化钛电极的表面形貌、相组成和电化学性能,利用紫外−可见光分光光度计测试其对有机污染物的降解效果... 采用溶胶−凝胶烧结法制备三维泡沫SiC基亚氧化钛(SiC/Ti_(n)O_(2n−1))电极。采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和电化学工作站表征亚氧化钛电极的表面形貌、相组成和电化学性能,利用紫外−可见光分光光度计测试其对有机污染物的降解效果。结果表明:1050℃/2 h烧结制备的泡沫SiC基亚氧化钛电极涂层质量较好,分布连续、均匀,且导电相Ti_(4)O_(7)的含量最高(质量分数为37.5%)、薄膜电荷转移电阻最低(16.75Ω),对模拟污染物酸性橙G表现出更快的降解速率(反应速率常数为0.60 h^(-1))和更低的能耗(11.63(kW·h)/m^(3))。·OH和SO_(4)^(·-)均参与降解酸性橙G,且·OH和SO_(4)^(·-)对去除酸性橙G的贡献几乎相同。无机离子HCO_(3)^(-)、NO_(3)^(-)、H_(2)P O_(4)^(-)的存在对酸性橙G的降解均具有抑制作用,而Cl^(−)会促进酸性橙G的降解。电极在多次降解中表现出较高的稳定性。 展开更多
关键词 亚氧化钛电极 泡沫SiC基体 电化学性能 废水降解 电化学氧化
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等离子体渗硼对硬质合金表面金刚石涂层的影响
7
作者 丁晟 王海龙 +1 位作者 马莉 魏秋平 《粉末冶金材料科学与工程》 2024年第3期181-190,共10页
采用热丝化学气相沉积法在等离子体渗硼预处理后的硬质合金表面沉积金刚石涂层,利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、拉曼光谱仪及洛氏硬度计探究预处理过程对金刚石涂层生长质量和结合性能的影响。结果表明:随等离子体渗硼温度升高,基体... 采用热丝化学气相沉积法在等离子体渗硼预处理后的硬质合金表面沉积金刚石涂层,利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、拉曼光谱仪及洛氏硬度计探究预处理过程对金刚石涂层生长质量和结合性能的影响。结果表明:随等离子体渗硼温度升高,基体表面生成的CoWB含量增加,且WC脱碳还原为W。等离子体轰击使基体表面缺陷密度增大,能提高金刚石的形核速率,CoWB钝化层和W过渡层可抑制Co原子扩散,提高金刚石的生长质量。相较于酸碱两步法处理,经过等离子体渗硼处理的硬质合金表面金刚石涂层中石墨相含量明显减少,残余应力随等离子体渗硼温度升高而降低。石墨相含量的减少和残余应力的降低提高了金刚石涂层与硬质合金基体之间的结合性能,1000℃预处理的硬质合金表面金刚石涂层的结合力等级可达HF1水平。 展开更多
关键词 硬质合金 等离子体刻蚀 气体渗硼 化学气相沉积 金刚石涂层 结合性能
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基于导师制的研究生培养机制发展与改革 被引量:3
8
作者 魏秋平 周科朝 蔡圳阳 《中国冶金教育》 2023年第5期1-4,共4页
阐述了研究生导师制的发展历程与改革现状,指出研究生导师制改革的不足,探讨了以导师制为核心的研究生培养机制改革对策,提出研究生思想政治教育“导师负责制”,健全导师培训考核评价机制,推行导师小组负责制模式,促进改革模式多元化等... 阐述了研究生导师制的发展历程与改革现状,指出研究生导师制改革的不足,探讨了以导师制为核心的研究生培养机制改革对策,提出研究生思想政治教育“导师负责制”,健全导师培训考核评价机制,推行导师小组负责制模式,促进改革模式多元化等措施。 展开更多
关键词 导师制 研究生 培养 思想政治教育
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籽晶种植及掺硼形核对硬质合金表面金刚石涂层的影响 被引量:2
9
作者 余寒 夏鑫 +6 位作者 朱俊奎 王润 张龙 窦金杰 李静 马莉 魏秋平 《粉末冶金材料科学与工程》 2023年第4期404-412,共9页
为改善硬质合金刀具金刚石涂层的质量,提高金刚石涂层的形核密度以提升涂层的均匀性,本文采用热丝化学气相沉积法,在YG8硬质合金基体表面沉积纳米金刚石,研究籽晶种植和形核阶段掺硼对金刚石涂层形核和生长的影响。结果表明:采用质量浓... 为改善硬质合金刀具金刚石涂层的质量,提高金刚石涂层的形核密度以提升涂层的均匀性,本文采用热丝化学气相沉积法,在YG8硬质合金基体表面沉积纳米金刚石,研究籽晶种植和形核阶段掺硼对金刚石涂层形核和生长的影响。结果表明:采用质量浓度为1.0 g/L的氢端基纳米金刚石悬浊液进行籽晶种植时,样品表面籽晶密度最高、分布最均匀,后续生长的金刚石晶粒更加细小均匀,改善了涂层的均匀性和平整度。掺硼形核可抑制金刚石涂层中石墨相的形成,提高金刚石涂层的纯度,但硼的掺入使金刚石峰(D峰)的半峰宽(full width at half maximum,FWHM)增大,对金刚石结晶产生不利影响。籽晶种植可使涂层D峰的FWHM从17.43 cm^(−1)降低为10.91 cm^(−1),提升了掺硼形核阶段的结晶质量,削弱了掺硼的不利影响。将掺硼和籽晶种植相结合,所得金刚石晶粒尺寸最小约1~3μm,此时金刚石与石墨的拉曼峰强度比(ID/IG)高达12.83,涂层质量较好。此外在籽晶种植与掺硼形核共同作用下,金刚石涂层的结合性能显著提高,在600 N载荷下可达到HF1级别。 展开更多
关键词 金刚石涂层 籽晶种植 掺硼形核 晶粒尺寸 结合性能
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硬质合金晶粒度对其表面金刚石涂层的影响 被引量:1
10
作者 花腾宇 夏鑫 +2 位作者 马莉 魏秋平 石鹏程 《粉末冶金材料科学与工程》 2023年第2期180-191,共12页
采用热丝化学气相沉积法在不同晶粒度(0.4、0.6、1.0和2.0μm)的YG6硬质合金表面沉积硼掺杂金刚石涂层,通过扫描电镜、X射线衍射仪、拉曼光谱仪及洛氏硬度计对金刚石涂层的形貌、结构、成分、结合性能等进行分析,研究硬质合金晶粒度对... 采用热丝化学气相沉积法在不同晶粒度(0.4、0.6、1.0和2.0μm)的YG6硬质合金表面沉积硼掺杂金刚石涂层,通过扫描电镜、X射线衍射仪、拉曼光谱仪及洛氏硬度计对金刚石涂层的形貌、结构、成分、结合性能等进行分析,研究硬质合金晶粒度对金刚石涂层生长和结合性能的影响。结果表明,随硬质合金的晶粒度从0.4μm增大到2.0μm,金刚石的晶粒尺寸逐渐增大且均匀性更好,金刚石拉曼峰和石墨拉曼峰的峰强比(I_(D)/I_(G))从4.74增加到6.53。膜基结合性能与涂层的内应力、金刚石的半峰宽之间都有较好的相关性,均受基体合金晶粒错配度的影响,涂层的内应力还受掺硼的影响。当硬质合金晶粒度为2.0μm时,金刚石涂层的I_(D)/I_(G)比值最大,为6.53;涂层的内应力最小,仅为1.588 GPa;膜基结合性能最优,在600 N压力下达到HF1级。 展开更多
关键词 化学气相沉积 金刚石涂层 硬质合金 晶粒度 结合性能
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低压快速氢化引入氧空位增强TiO_(2)光催化降解性能 被引量:1
11
作者 陈峰磊 杨万林 +4 位作者 朱俊奎 魏秋平 张龙 李静 马莉 《粉末冶金材料科学与工程》 2023年第6期545-553,共9页
利用管式炉在300、400和500℃对TiO_(2)光催化剂(P25)进行低压快速氢化处理,研究氢化温度对样品物相结构、光电化学性能及催化降解活性的影响。结果表明:随氢化温度升高,P25氧空位浓度、光生载流子分离效率、可见光吸收性能、载流子浓... 利用管式炉在300、400和500℃对TiO_(2)光催化剂(P25)进行低压快速氢化处理,研究氢化温度对样品物相结构、光电化学性能及催化降解活性的影响。结果表明:随氢化温度升高,P25氧空位浓度、光生载流子分离效率、可见光吸收性能、载流子浓度以及光催化活性均先增大后减小,400℃氢化处理1 h的P25具有最佳上述性能。P25的BET(Brunauer-Emmett-Teller)比表面积对氢化温度的变化不敏感,说明低压快速氢化可在避免比表面积损失的同时引入氧空位,抑制电子空穴对的复合,提高光吸收性能和载流子浓度,从而提升P25的光催化性能。400℃氢化处理1 h后,P25的反应速率常数是未处理P25的1.63倍。 展开更多
关键词 TiO_(2) 氢化处理 氧空位 四环素 光催化降解
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Si/BDD电极在酸/碱电解条件下的电化学氧化性能变化
12
作者 白贺娜 王润 +5 位作者 杨万林 陈伟鹏 邓泽军 魏秋平 李静 马莉 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第5期121-130,共10页
目的探究Si/BDD电极在酸性、碱性2种电解条件下的性能变化特征,阐明BDD电极在酸、碱溶液中电化学氧化性能的变化与失效机理。方法通过HFCVD技术制备Si/BDD电极,分别在1 mol/L H_(2)SO_(4)、1 mol/L NaOH溶液中进行加速寿命实验,以活性蓝... 目的探究Si/BDD电极在酸性、碱性2种电解条件下的性能变化特征,阐明BDD电极在酸、碱溶液中电化学氧化性能的变化与失效机理。方法通过HFCVD技术制备Si/BDD电极,分别在1 mol/L H_(2)SO_(4)、1 mol/L NaOH溶液中进行加速寿命实验,以活性蓝19(RB-19)模拟染料废水,进行电化学氧化降解实验。使用扫描电子显微镜、拉曼光谱、接触角测试仪、紫外分光光度计及电化学工作站对电极的表面形貌、成分及电化学性能进行表征。结果在1 mol/L NaOH溶液中,当电解时间为195 h时,电极表面部分区域发生了明显的脱落现象;在1 mol/L H_(2)SO_(4)溶液中,当电解时间达到600 h时,电极表面仍未出现明显的脱落现象,电极表面形貌由清晰转为模糊,晶粒尺寸细化,且在晶界处存在明显的腐蚀现象;在酸溶液中,BDD电极对RB-19的降解效果随着电解时间的延长而提高,而在碱溶液中,其降解效果与电解10 h的降解效果基本一致。结论与酸溶液相比,Si/BDD电极更易在碱溶液中发生腐蚀。 展开更多
关键词 掺硼金刚石电极 电化学氧化 电极稳定性 加速寿命实验 活性蓝19
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化学脱钴对硬质合金沉积金刚石薄膜的影响 被引量:18
13
作者 魏秋平 余志明 +3 位作者 马莉 杨莉 刘王平 肖和 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1070-1081,共12页
采用HFCVD系统,以CH4和H2为反应气体,分别在YG3、YG6、YG10、YG13硬质合金上沉积了金刚石薄膜,研究了化学脱钴处理对不同钴含量硬质合金沉积金刚石薄膜的影响。通过对105个样品的实验结果进行统计分析发现,YG3所得金刚石薄膜样品具有足... 采用HFCVD系统,以CH4和H2为反应气体,分别在YG3、YG6、YG10、YG13硬质合金上沉积了金刚石薄膜,研究了化学脱钴处理对不同钴含量硬质合金沉积金刚石薄膜的影响。通过对105个样品的实验结果进行统计分析发现,YG3所得金刚石薄膜样品具有足够结合强度的比例为89%;而YG6、YG10和YG13所得样品的相应值分别为24%、7%和0%。相反,YG3、YG6、YG10和YG13所得金刚石薄膜严重破坏的比例分别为0%、64%、72%和79%。研究表明,化学腐蚀脱钴处理能够解决金刚石涂层形核率低的问题,但难以解决高钴硬质合金的附着性差的问题。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 硬质合金 预处理 附着力
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W18Cr4V高速钢渗铬热处理对HFCVD金刚石膜生长的影响 被引量:8
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作者 魏秋平 王钰言 +2 位作者 陈中 刘培植 余志明 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期1623-1631,共9页
采用热丝化学沉积法在高速钢基体上沉积金刚石薄膜。为了减少石墨的形成、增强膜基结合强度,沉积前先使用渗铬热处理在高速钢表面制备一层碳化铬中间层。采用场发射扫描电子显微镜、X射线衍射仪、激光拉曼光谱和洛氏硬度计对渗铬基体和... 采用热丝化学沉积法在高速钢基体上沉积金刚石薄膜。为了减少石墨的形成、增强膜基结合强度,沉积前先使用渗铬热处理在高速钢表面制备一层碳化铬中间层。采用场发射扫描电子显微镜、X射线衍射仪、激光拉曼光谱和洛氏硬度计对渗铬基体和金刚石膜进行检测分析,研究渗铬热处理对高速钢基体与金刚石膜的物相组织、结构形貌和附着性能的影响。结果表明:渗铬热处理能在钢基表面形成一层致密的富Cr层,此过渡层能有效提高金刚石的形核率,在渗铬钢基表面形成连续致密的高质量金刚石膜,但该金刚石膜的应力较大,1 471N载荷的压痕测试导致薄膜严重破坏,说明膜基结合强度有待进一步提高。 展开更多
关键词 金刚石膜 高速钢 化学气相沉积 渗铬热处理 附着性能
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YG13硼化处理后沉积气压对金刚石薄膜的影响 被引量:9
15
作者 魏秋平 余志明 +4 位作者 马莉 游小龙 丰杰 吴晓斌 刘王平 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期775-782,共8页
采用超高真空热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,以甲烷和氢气为反应气体,在YG13(WC-13%Co)硬质合金基体上沉积金刚石薄膜。用场发射扫描电子显微镜(FESEM)和X射线衍射仪(XRD)对金刚石薄膜进行检测分析,研究YG13经950℃、3h硼化预处理后沉积... 采用超高真空热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,以甲烷和氢气为反应气体,在YG13(WC-13%Co)硬质合金基体上沉积金刚石薄膜。用场发射扫描电子显微镜(FESEM)和X射线衍射仪(XRD)对金刚石薄膜进行检测分析,研究YG13经950℃、3h硼化预处理后沉积气压对金刚石薄膜形貌和生长织构的影响;通过压痕法比较硼化与二步法两种预处理方法对金刚石薄膜附着性能的影响。结果表明,基体经硼化预处理后表面形成CoB、CoW2B2、CoW3B3相;当沉积温度为750~800℃,碳源浓度为3.3%时,薄膜表面形貌和生长织构随着沉积气压改变有明显的变化;硼化预处理后所得样品在1500N载荷下压痕表现出良好的附着性能,较二步法预处理更加有效地改善了膜-基附着性能。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 硬质合金 硼化预处理 附着性能
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YG6硼化综合处理后基体温度对金刚石薄膜的影响 被引量:6
16
作者 魏秋平 余志明 +4 位作者 马莉 胡德莹 李媛 刘王平 肖和 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2006年第6期29-34,共6页
采用热丝化学气相沉积(HFCVD)方法,以甲烷和氢气为反应气体,在经950℃×6h硼化综合处理后的YG6(WC–6%Co)硬质合金基体上制备了金刚石膜。使用场发射扫描电子显微镜(FESEM)和X射线衍射仪(XRD)对金刚石薄膜进行检测分析、对比,研究... 采用热丝化学气相沉积(HFCVD)方法,以甲烷和氢气为反应气体,在经950℃×6h硼化综合处理后的YG6(WC–6%Co)硬质合金基体上制备了金刚石膜。使用场发射扫描电子显微镜(FESEM)和X射线衍射仪(XRD)对金刚石薄膜进行检测分析、对比,研究了基体温度对金刚石薄膜形貌和生长织构的影响,比较了硼化综合处理与二步法处理对金刚石薄膜附着性能的影响。结果表明,当沉积气压为2.67kPa,碳源浓度为3.3%时,薄膜表面形貌和生长织构随着基体温度改变有明显的变化,硼化综合处理较二步法预处理更加有效地改善了膜–基附着性能。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 硬质合金 基体温度 硼化处理 附着性能
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进气方式对热丝CVD制备金刚石薄膜的影响 被引量:5
17
作者 魏秋平 王玲 +3 位作者 余志明 陈永勤 马莉 龙航宇 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期36-41,46,共7页
采用超高真空热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,以甲烷和氢气为反应气体,在YG13(WC-13%Co)硬质合金基体上沉积金刚石薄膜。采用场发射扫描电子显微镜(FESEM)和X射线衍射仪(XRD)对金刚石薄膜进行检测分析,研究了反应气体的不同进气方式对金... 采用超高真空热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,以甲烷和氢气为反应气体,在YG13(WC-13%Co)硬质合金基体上沉积金刚石薄膜。采用场发射扫描电子显微镜(FESEM)和X射线衍射仪(XRD)对金刚石薄膜进行检测分析,研究了反应气体的不同进气方式对金刚石薄膜的影响。结果表明,随着进气方式的改变,基体周围气氛的组成、密度和分布受到影响,金刚石薄膜的形核密度、表面形貌、生长织构均有明显的变化,所得金刚石晶粒的生长参数多为1.5<α<3,3^(1/2)/2<г<3^(1/2)。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 进气方式 硬质合金 晶体形貌 织构
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热丝辐射距离与甲烷浓度对CVD金刚石薄膜的影响 被引量:5
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作者 魏秋平 田孟昆 +3 位作者 马莉 陈中 刘培植 余志明 《粉末冶金材料科学与工程》 EI 2011年第2期187-195,共9页
以H2和CH4作为反应气体,采用热丝化学气相沉积法(Hot filaments chemical vapor deposition,HFCVD),在WC-3%Co条状平板上制备金刚石薄膜,利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、激光拉曼光谱(Raman)和洛氏硬度仪分析薄膜的形貌、结构、成... 以H2和CH4作为反应气体,采用热丝化学气相沉积法(Hot filaments chemical vapor deposition,HFCVD),在WC-3%Co条状平板上制备金刚石薄膜,利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、激光拉曼光谱(Raman)和洛氏硬度仪分析薄膜的形貌、结构、成分和附着性能,研究热丝辐射距离和反应气体中甲烷的体积分数对金刚石薄膜的影响。结果表明:热丝辐射距离和甲烷体积分数增加会使薄膜中金刚石相(sp3杂化)减少,且热丝辐射距离和甲烷体积分数显著影响薄膜中sp2杂化碳相的种类和含量。当热丝辐射距离约为9~13 mm时,薄膜的成分和结构受热丝辐射距离变化的影响较小;而在热丝辐射距离在13~17 mm范围内时,薄膜的成分和结构受热丝辐射距离的影响较大。压痕测试表明在WC-3%Co硬质合金基体上沉积的金刚石薄膜与基体的附着性能良好。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 甲烷体积分数 热丝辐射距离 拉曼光谱 热丝化学气相沉积
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Effects of sputtering pressure on nanostructure and nanomechanical properties of AlN films prepared by RF reactive sputtering 被引量:2
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作者 魏秋平 张雄伟 +4 位作者 刘丹瑛 李劼 周科朝 张斗 余志明 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第9期2845-2855,共11页
Wurtzite aluminum nitride(AlN) films were deposited on Si(100) wafers under various sputtering pressures by radio-frequency(RF) reactive magnetron sputtering. The film properties were investigated by XRD, SEM, A... Wurtzite aluminum nitride(AlN) films were deposited on Si(100) wafers under various sputtering pressures by radio-frequency(RF) reactive magnetron sputtering. The film properties were investigated by XRD, SEM, AFM, XPS and nanoindenter techniques. It is suggested from the XRD patterns that highly c-axis oriented films grow preferentially at low pressures and the growth of(100) planes are preferred at higher pressures. The SEM and AFM images both reveal that the deposition rate and the surface roughness decrease while the average grain size increases with increasing the sputtering pressure. XPS results show that lowering the sputtering pressure is a useful way to minimize the incorporation of oxygen atoms into the AlN films and hence a film with closer stoichiometric composition is obtained. From the measurement of nanomechanical properties of AlN thin films, the largest hardness and elastic modulus are obtained at 0.30 Pa. 展开更多
关键词 AlN thin film reactive magnetron sputtering preferred orientation nanomechanical properties
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Growth mechanism of icosahedral and other five-fold symmetric diamond crystals 被引量:3
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作者 魏秋平 马莉 +1 位作者 叶浚 余志明 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第5期1587-1598,共12页
Five-fold symmetric diamond crystals(FSDCs) were synthesized by hot filament chemical vapour deposition(HFCVD) methods. Their surface morphologies and defects were characterised by scanning electron microscopy(SE... Five-fold symmetric diamond crystals(FSDCs) were synthesized by hot filament chemical vapour deposition(HFCVD) methods. Their surface morphologies and defects were characterised by scanning electron microscopy(SEM). From the perspective of nucleation-growth, a growth mechanism for icosahedral and other five-fold symmetric diamond crystals was discussed. Computer modelling was also carried out. The results show that the dodecahedrane(C20H20) molecule is proposed as a nucleus for the growth of icosahedral diamond crystals(IDCs), wherein the 20 {111} surface planes develop orthogonal to the direction of the original 20 C—H bonds by sequential H abstraction and CH3 addition reactions. IDC can be pictured as an assembly of isosceles tetrahedra, with each tetrahedron contributing a {111} plane to the surface of the IDC and the remainder of the tetrahedral surfaces forming twin planes with neighbouring tetrahedra. The small mismatch(1.44°) between the {111} surface dihedral angle of a perfect icosahedron and that of a twinned icosahedron reveals itself via twin planes in the IDC grain. The modelling suggests how the relief of strain induced by this distortion could lead to the formation of defects such as concave pentagonal cavities at vertices and grooves along the grain edges that accord well with those observed experimentally. Similar arguments based on growth from the hexacyclo pentadecane(C15H20) nucleus can also account for the observed formation of star and rod shaped FSDCs, and some of their more obvious morphological defects. 展开更多
关键词 diamond five-fold symmetry ICOSAHEDRON dodecahedrane defect
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