石墨烯/锰锌铁氧体/硅薄膜特性及其太赫兹波的磁场调制作用

近年间,基于磁性薄膜的太赫兹调制器件有了初步进展。对磁控溅射锰锌铁氧体薄膜的制备工艺进行了详细研究。在此基础上,制备了石墨烯/锰锌铁氧体/硅(graphene/MnZn ferrite/Si)结构的太赫兹调制器件。其在太赫兹波段的透射可以通过源-栅电压来调制。当栅极电压V_(sg)为-25 V时,垂直膜面磁场从20 Oe增大到200 Oe,复折射率和复介电常数的实部随之增高。由于锰锌铁氧体薄膜的反常塞曼效应和各向异性磁电阻效应引起薄膜整体电导率和折射率的变化,实现了外加磁场对太赫兹波相位的调制。