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氧化钒薄膜在玻璃基片上的生长研究 被引量:4
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作者 魏雄邦 吴志明 +1 位作者 王涛 蒋亚东 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期364-368,共5页
采用直流反应磁控溅射法,在平整光滑的普通玻璃基片表面沉积了厚度分别为80nm、440nm和1μm的氧化钒薄膜.采用原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜的表面形貌、结构和结晶化的分析表明,厚度影响着薄膜的颗粒大小... 采用直流反应磁控溅射法,在平整光滑的普通玻璃基片表面沉积了厚度分别为80nm、440nm和1μm的氧化钒薄膜.采用原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜的表面形貌、结构和结晶化的分析表明,厚度影响着薄膜的颗粒大小和结晶状态,随着薄膜厚度的增加,薄膜的颗粒增大,晶化增强;薄膜具有明显的垂直于衬底表面的"柱"状择优生长特征.对薄膜的方阻和方阻随温度的变化进行了相关分析,证实了厚度对氧化钒薄膜的电学性能存在明显的影响,随着薄膜厚度的增加,薄膜的方阻减小,方阻温度系数升高,薄膜的方阻随温度变化的回线滞宽逐渐增大,薄膜的金属.半导体相变逐渐趋于明显. 展开更多
关键词 氧化钒薄膜 玻璃 厚度 直流磁控溅射
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氧化钒薄膜成分及价态的深度刻蚀分析 被引量:3
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作者 魏雄邦 蒋亚东 +3 位作者 吴志明 廖家轩 贾宇明 田忠 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第22期1-4,共4页
采用直流反应磁控溅射法制备了厚度为500nm的氧化钒薄膜。采用X射线光电子能谱仪对制得的氧化钒薄膜进行了深度刻蚀分析。结果表明,随薄膜刻蚀深度的增加,薄膜内的氧钒比及钒离子价态发生了递变,当薄膜刻蚀深度小于80nm时,这一递变趋势... 采用直流反应磁控溅射法制备了厚度为500nm的氧化钒薄膜。采用X射线光电子能谱仪对制得的氧化钒薄膜进行了深度刻蚀分析。结果表明,随薄膜刻蚀深度的增加,薄膜内的氧钒比及钒离子价态发生了递变,当薄膜刻蚀深度小于80nm时,这一递变趋势尤为明显。认为这与氧化钒薄膜中各价态钒氧化合物的稳定性和薄膜的制备工艺密切相关。 展开更多
关键词 氧化钒薄膜 深度刻蚀 成分 价态
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氧化钒薄膜的厚度对薄膜电学特性的影响 被引量:3
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作者 魏雄邦 吴志明 +3 位作者 王涛 许向东 唐晶晶 蒋亚东 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期122-124,共3页
利用直流反应磁控溅射法在表面覆盖有Si3N4薄膜的S(i100)基片上制备了不同厚度的氧化钒薄膜。用光谱式椭偏仪对薄膜的厚度进行了测试。采用四探针测试系统对制备的薄膜进行了方阻和方阻温度系数的分析,发现薄膜的厚度对薄膜的电学特性... 利用直流反应磁控溅射法在表面覆盖有Si3N4薄膜的S(i100)基片上制备了不同厚度的氧化钒薄膜。用光谱式椭偏仪对薄膜的厚度进行了测试。采用四探针测试系统对制备的薄膜进行了方阻和方阻温度系数的分析,发现薄膜的厚度对薄膜的电学特性有很大的影响。实验结果表明氧化钒薄膜的厚度调整可作为调控氧化钒薄膜性能的一种重要工艺手段。 展开更多
关键词 氧化钒薄膜厚度 光谱式椭偏仪方阻方阻温度系数
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氧化钒薄膜的制备技术及特性研究 被引量:2
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作者 魏雄邦 吴志明 +3 位作者 王涛 许庆宪 李建峰 蒋亚东 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第F05期328-330,335,共4页
采用直流反应磁控溅射法,通过精确控制反应溅射电压优化了氧化钒薄膜的制备工艺。对制备的氧化钒薄膜,利用四探针测试仪检测了薄膜的方阻和方阻温度系数,用X射线光电子能谱(XPS)仪和原子力显微镜(AFM)对薄膜的钒氧原子比和薄膜的微观形... 采用直流反应磁控溅射法,通过精确控制反应溅射电压优化了氧化钒薄膜的制备工艺。对制备的氧化钒薄膜,利用四探针测试仪检测了薄膜的方阻和方阻温度系数,用X射线光电子能谱(XPS)仪和原子力显微镜(AFM)对薄膜的钒氧原子比和薄膜的微观形貌分别进行了分析和表征。实验结果表明,利用精确控制反应溅射电压法生长出的氧化钒薄膜的性能得到了进一步的提高。 展开更多
关键词 氧化钒薄膜 磁控溅射 溅射电压
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氧化钒薄膜的微观结构研究
5
作者 魏雄邦 蒋亚东 +3 位作者 吴志明 廖家轩 贾宇明 田忠 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第20期13-16,共4页
采用直流反应磁控溅射法在不同基片上制备了80nm和1000nm厚的氧化钒薄膜。采用X射线衍射仪、原子力显微镜及扫描电镜进行了薄膜微观结构分析。结果表明,薄膜的晶化受衬底影响较大,晶化随膜厚的增加而增强。不同衬底上生长的薄膜晶粒尺... 采用直流反应磁控溅射法在不同基片上制备了80nm和1000nm厚的氧化钒薄膜。采用X射线衍射仪、原子力显微镜及扫描电镜进行了薄膜微观结构分析。结果表明,薄膜的晶化受衬底影响较大,晶化随膜厚的增加而增强。不同衬底上生长的薄膜晶粒尺寸存在较大差异,Si3N4/Si衬底上生长的薄膜晶粒细小,薄膜较为平坦;玻璃衬底、Si衬底和α-Al2O3陶瓷衬底上生长的薄膜晶粒较为粗大。随着膜厚的增加,薄膜的晶粒尺寸明显增大,不同衬底上生长的二氧化钒薄膜晶粒都具有一种独特的"纺锤"形或"棒"形。 展开更多
关键词 氧化钒薄膜 衬底 膜厚 微观结构
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[(BaTiO_3)_m/(SrTiO_3)_m]_n超晶格生长的RHEED实时研究
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作者 魏雄邦 姜斌 +4 位作者 李燕 邓宏 蒋书文 张鹰 姚海军 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2005年第2期178-181,共4页
利用反射高能电子衍射(RHEED),研究了在SrTiO3(100)基片上采用激光分子束外延法生长的[(Ba-TiO3)m/(SrTiO3)m]n超晶格薄膜的生长特性。观察到清晰明亮的反射高能电子衍射花样及富有周期性的RHEED振荡曲线,制备的超晶格呈现良好的结晶层... 利用反射高能电子衍射(RHEED),研究了在SrTiO3(100)基片上采用激光分子束外延法生长的[(Ba-TiO3)m/(SrTiO3)m]n超晶格薄膜的生长特性。观察到清晰明亮的反射高能电子衍射花样及富有周期性的RHEED振荡曲线,制备的超晶格呈现良好的结晶层状外延生长,薄膜表面及界面的平整度很好。 展开更多
关键词 反射高能电子衍射(RHEED) 超晶格 外延生长
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微纳结构对电容式柔性压力传感器性能影响的研究 被引量:18
7
作者 全勇 魏雄邦 +5 位作者 肖伦 吴涛 庞韩英 吴双红 陈志 蒋亚东 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2017年第3期337-340,共4页
设计制备出三明治结构的电容式柔性压力传感器,并对其性能进行研究。该传感器以银纳米线为电极材料,聚二甲基硅氧烷(PDMS)为柔性衬底,同时采用毛面玻璃和光面玻璃分别作为柔性衬底的制备模板,制备出微纳结构和平面结构的PDMS薄膜。然后... 设计制备出三明治结构的电容式柔性压力传感器,并对其性能进行研究。该传感器以银纳米线为电极材料,聚二甲基硅氧烷(PDMS)为柔性衬底,同时采用毛面玻璃和光面玻璃分别作为柔性衬底的制备模板,制备出微纳结构和平面结构的PDMS薄膜。然后采用喷涂法制备Ag NWs/PDMS复合电极,以另外一层PDMS为介电层,将两电极面对面封装,得到电容式柔性压力传感器,最后系统研究了传感器的电极微纳结构对器件性能的影响。本文研究表明,具有微纳结构的AgNWs/PDMS复合薄膜传感器的灵敏度为1.0 k Pa^(-1),而平面结构的Ag NWs/PDMS复合薄膜传感器的灵敏度为0.6 k Pa^(-1),由此可知具有微纳结构的柔性衬底能够显著提高器件的灵敏度。 展开更多
关键词 柔性压力传感器 微纳结构 聚二甲基硅氧烷(PDMS) 银纳米线
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BaFe_(12)O_(19)/BaTiO_3复合材料的制备及微波性能 被引量:5
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作者 王洪全 廖家轩 +3 位作者 潘笑风 傅向军 张佳 魏雄邦 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第A02期483-486,共4页
采用溶胶凝胶法制备了钛酸钡(BaTiO3,BTO)和钡铁氧体(BaFe12O19,BFO)复合粉体。研究了该粉体的结晶情况、相结构、形貌及吸波性能。XRD结果表明,复合粉体的相结构与BFO粉体的相结构接近,但与BTO含量和烧结温度密切相关。SEM结果表明,复... 采用溶胶凝胶法制备了钛酸钡(BaTiO3,BTO)和钡铁氧体(BaFe12O19,BFO)复合粉体。研究了该粉体的结晶情况、相结构、形貌及吸波性能。XRD结果表明,复合粉体的相结构与BFO粉体的相结构接近,但与BTO含量和烧结温度密切相关。SEM结果表明,复合粉体由微米晶粒和纳米晶粒组成,随着烧结温度的升高颗粒尺寸增大。吸波性能测试表明,粉体在500MHz~18GHz频率范围有多个吸收峰,BTO的加入明显改善了材料的吸波性能。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 复合 钡铁氧体 钛酸钡 吸波性能
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交替中间热处理BST薄膜介电性能研究 被引量:4
9
作者 廖家轩 魏雄邦 +3 位作者 潘笑风 张佳 傅向军 王洪全 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期962-966,共5页
用溶胶-凝胶(Sol-Gel)法制备了三种钛酸锶钡(Ba0.6Sr0.4TiO3,BST)薄膜:常规的四层薄膜,在逐层制备过程中,对首层薄膜进行中间热处理(Preheat-treatment,PT)的四层薄膜及间隔或交替地对奇数层薄膜进行中间热处理(称为交替中间热处理(Alte... 用溶胶-凝胶(Sol-Gel)法制备了三种钛酸锶钡(Ba0.6Sr0.4TiO3,BST)薄膜:常规的四层薄膜,在逐层制备过程中,对首层薄膜进行中间热处理(Preheat-treatment,PT)的四层薄膜及间隔或交替地对奇数层薄膜进行中间热处理(称为交替中间热处理(Alternate-preheat-treatment,APT))的八层薄膜.用XPS研究薄膜表面成分化学态,用SEM和AFM观察表面形貌及晶化,并进行了介电性能测试.结果表明,常规薄膜介电性能差;经PT,薄膜裂纹和缩孔显著减少,形貌明显改善,表面非钙钛矿结构显著减少,介电性能明显提高;经APT,薄膜形貌进一步改善,平均晶粒大小约30nm,非钙钛矿结构进一步减少,介电损耗明显降低,介电稳定性和介电强度大幅度提高.APT为制备退火温度低及结构均匀致密的纳米晶BST薄膜提供了新方法,可满足低频实用要求.退火温度对薄膜厚度的影响也进行了讨论. 展开更多
关键词 中间热处理 交替中间热处理 钛酸锶钡薄膜 介电性能
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PVP添加剂改善溶胶-凝胶法制备BST薄膜表面结构及介电性能 被引量:2
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作者 张佳 廖家轩 +3 位作者 潘笑风 王洪全 傅向军 魏雄邦 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第B08期90-93,共4页
以聚乙烯吡咯烷酮(polyvinyl pyrrolidone,PVP)为添加剂采用改善的溶胶凝胶法制备了Ba0.6Sr0.4TiO3(BST)薄膜,并采用扫描电镜(SEM)及原子力显微镜(AFM)研究了薄膜的表面结构与介电性能。结果表明:PVP显著改善了BST薄膜的表面形貌,当PVP... 以聚乙烯吡咯烷酮(polyvinyl pyrrolidone,PVP)为添加剂采用改善的溶胶凝胶法制备了Ba0.6Sr0.4TiO3(BST)薄膜,并采用扫描电镜(SEM)及原子力显微镜(AFM)研究了薄膜的表面结构与介电性能。结果表明:PVP显著改善了BST薄膜的表面形貌,当PVP:Ti的物质的量比为0.7%时,BST薄膜表面形貌最佳,光滑致密无裂纹无缩孔。X射线光电子能谱(XPS)表明,PVP有助于减少BST薄膜表面非钙钛矿结构。介电性能测试表明,在40V外加电压下BST薄膜的介电调谐率达45%,零偏压下的介电损耗低于0.02。另外,对PVP的作用机理进行了讨论。 展开更多
关键词 改善溶胶凝胶法 钛酸锶钡薄膜 聚乙烯吡咯烷酮(PVP) 介电性能
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Y掺杂BST薄膜介电性能研究 被引量:1
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作者 潘笑风 廖家轩 +3 位作者 王洪全 张佳 傅向军 魏雄邦 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第A02期621-623,共3页
用改进溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO2/Si上制备了钇(Y)掺杂Ba0.6Sr0.4TiO3(BST)薄膜,研究了Y掺杂对BST薄膜表面结构和介电性能的影响。XPS结果表明,Y掺杂有利于薄膜钙钛矿结构的形成,但对氧空位没有明显的抑制作用。SEM和AFM结果表明,Y掺杂... 用改进溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO2/Si上制备了钇(Y)掺杂Ba0.6Sr0.4TiO3(BST)薄膜,研究了Y掺杂对BST薄膜表面结构和介电性能的影响。XPS结果表明,Y掺杂有利于薄膜钙钛矿结构的形成,但对氧空位没有明显的抑制作用。SEM和AFM结果表明,Y掺杂能缓解薄膜应力、减少薄膜裂纹、细化晶粒,进而改善薄膜的表面结构。在进行Y掺杂后,薄膜的介电性能得到明显提高,40V外加电压下的介电调谐率大于40%及零偏压下介电损耗为0.0210,优化因子大于20。 展开更多
关键词 掺杂 钛酸锶钡薄膜 溶胶-凝胶法 介电性能
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铈掺杂钛酸锶钡薄膜的结构及介电性能
12
作者 傅向军 廖家轩 +3 位作者 张佳 潘笑风 王洪全 魏雄邦 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第A02期624-626,共3页
用改善的溶胶凝胶法制备铈掺杂钛酸锶钡(Ba0.6Sr0.4TiO3,BST)薄膜,研究其结构与介电性能。X射线光电子能谱表明,铈掺杂显著地减少了薄膜表面非钙钛矿结构。但是,由于掺杂薄膜较薄且掺杂量小,X射线衍射结果未见明显变化。原子力显微镜结... 用改善的溶胶凝胶法制备铈掺杂钛酸锶钡(Ba0.6Sr0.4TiO3,BST)薄膜,研究其结构与介电性能。X射线光电子能谱表明,铈掺杂显著地减少了薄膜表面非钙钛矿结构。但是,由于掺杂薄膜较薄且掺杂量小,X射线衍射结果未见明显变化。原子力显微镜结果表明,掺杂BST薄膜表面光滑致密。掺杂BST薄膜的介电性能大幅度提高,在40V外加电压下介电调谐率达60.8%,零偏压下的介电损耗为0.0265。同时,就有关结构及介电性能改善的机制进行了讨论。 展开更多
关键词 铈掺杂 钛酸锶钡薄膜 钙钛矿结构 介电性能
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一步法制备TiO2/石墨烯复合多孔薄膜应用于增强光催化活性及光伏性能 被引量:2
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作者 郭俊雄 李奕奕 +6 位作者 李尚栋 崔旭梅 刘宇 黄文 毛琳娜 魏雄邦 张晓升 《Chinese Journal of Catalysis》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2020年第8期1208-1216,共9页
纳米二氧化钛具有制备简单、成本低、化学稳定性好及光响应度高等诸多优势,因而广泛应用于光催化及太阳能转化等诸多领域中.然而,传统TiO2纳米材料受限于较高光电子空穴复合率,导致其光催化活性及光电转化效率较低.为解决这一问题,研究... 纳米二氧化钛具有制备简单、成本低、化学稳定性好及光响应度高等诸多优势,因而广泛应用于光催化及太阳能转化等诸多领域中.然而,传统TiO2纳米材料受限于较高光电子空穴复合率,导致其光催化活性及光电转化效率较低.为解决这一问题,研究者采用多种方法用以改善纳米TiO2的结构,包括化学掺杂、半导体材料插层、碳材料杂化等;另一方面则关注材料结构的设计,例如将合成的纳米材料进一步加工为多孔薄膜,以增大材料比表面积及器件稳定性,以增强其器件性能.其中,将石墨烯引入纳米TiO2中,形成复合纳米材料,以提升材料本身的光电子传输效率,降低光生载流子复合率,为制备高性能光催化剂及光伏器件开辟了一条可行之路.然而,目前制备的纳米TiO2/石墨烯复合材料的性能仍不理想,其中常见的问题为合成的材料团聚严重,导致光生载流子在界面传输阻力及复合率都十分高,限制其实际应用.此外,当前大多数关于纳米TiO2/石墨烯的制备方法仍为溶胶凝胶法、水热法等,所得材料需要进一步进行微纳加工方能形成介孔结构;这些加工方式往往需要二次退火处理,这会进一步加重纳米材料的团聚现象,导致孔隙率分布混乱、材料界面缺陷增多等不良结果.因此,本文采用一步法-蒸汽热法成功制备了TiO2/石墨烯复合多孔薄膜,无需二次热处理.实验结果表明,所制TiO2/石墨烯复合物(VTH)的形貌为二维结构,其比表面积高达260 m^2g^-1,获得的多孔薄膜无明显团聚且孔隙分布集中.当复合物中还原氧化石墨烯含量为5.0wt%时,其光催化活性最高,高于单一的TiO2薄膜近3倍;将还原氧化石墨烯含量为0.75wt%的复合物用于染料敏化太阳能电池的光阳极时,光电转化效率达到7.58%,明显高于传统方法制备的单一TiO2的(4.38%). 展开更多
关键词 TiO2-石墨烯复合物 光催化活性 光阳极 蒸汽热法 介孔薄膜
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磁控溅射制备的氧化钒的椭偏光谱分析
14
作者 熊昊 吴志明 +2 位作者 蒋亚东 魏雄邦 浦娟 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期888-892,共5页
采用直流反应磁控溅射工艺,在不同的沉积时间条件下(5~100min)制备了以单晶硅为衬底的氧化钒薄膜,用扫描电镜分析了薄膜结构的断面形貌。对氧化钒薄膜建立了椭偏色散模型[1],运用经典振子模型在椭偏仪上拟合并计算薄膜的透射光谱得到... 采用直流反应磁控溅射工艺,在不同的沉积时间条件下(5~100min)制备了以单晶硅为衬底的氧化钒薄膜,用扫描电镜分析了薄膜结构的断面形貌。对氧化钒薄膜建立了椭偏色散模型[1],运用经典振子模型在椭偏仪上拟合并计算薄膜的透射光谱得到理想的拟合效果,发现在300~450nm内其折射率随波长的增加而增大,而在450~700nm内逐渐减小,632.8nm波长下磁控溅射制备的氧化钒薄膜折射率在2.2~2.5。初始沉积薄膜折射率较大,而随着沉积时间的增加,不同厚度的薄膜折射率从2.43到2.24呈现略微减小的趋势。用拟合得到的厚度值来计算出沉积速率,发现沉积速率也逐渐变小。 展开更多
关键词 氧化钒薄膜 磁控溅射 椭圆偏振法 光学参数
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Energy transfer ultraviolet photodetector with 8-hydroxyquinoline derivative-metal complexes as acceptors
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作者 吴双红 李文连 +3 位作者 陈志 李世彬 王晓晖 魏雄邦 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第2期490-493,共4页
We choose 8-hydroxyquinoline derivative-metal complexes(Beq,Mgq,and Znq) as the acceptors(A) and 4,4',4”-tri-(2-methylphenyl phenylamino) triphenylaine(m-MTDATA) as the donor(D) respectively to study the e... We choose 8-hydroxyquinoline derivative-metal complexes(Beq,Mgq,and Znq) as the acceptors(A) and 4,4',4”-tri-(2-methylphenyl phenylamino) triphenylaine(m-MTDATA) as the donor(D) respectively to study the existing energy transfer process in the organic ultraviolet(UV) photodetector(PD),which has an important influence on the sensitivity of PDs.The energy transfer process from D to A without exciplex formation is discussed,differing from the working mechanism of previous PDs with Gaq[Zisheng Su,Wenlian Li,Bei Chu,Tianle Li,Jianzhuo Zhu,Guang Zhang,Fei Yan,Xiao Li,Yiren Chen and Chun-Sing Lee 2008 Appl.Phys.Lett.93 103309)]and REq[J.B.Wang,W.L.Li,B.Chu,L.L.Chen,G.Zhang,Z.S.Su,Y.R.Chen,D.F.Yang,J.Z.Zhu,S.H.Wu,F.Yan,H.H.Liu,C.S.Lee 2010 Org.Electron.111301]used as an A material.Under 365-nm UV irradiation with an intensity of 1.2 mW/cm^2,the m-MTDATA:Beq blend device with a weight ratio of 1:1 shows a response of 192 mAAV with a detectivity of 6.5 × 10^(11) Jones,which exceeds those of PDs based on Mgq(146 mA/W) and Znq(182 mA/W) due to better energy level alignment between m-MTDATA/Beq and lower radiative decay.More photophysics processes of the PDs involved are discussed in detail. 展开更多
关键词 organic photodetector energy transfer ULTRAVIOLET
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Optical Performance of N-Face A1GaN Ultraviolet Light Emitting Diodes
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作者 余宏萍 李世彬 +4 位作者 张鹏 吴双红 魏雄邦 吴志明 陈志 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2014年第10期146-148,共3页
The optical property and injection efficiency of N-face A1GaN based ultraviolet light emitting diodes (UV-LEDs) are studied and compared with Ga-face A1GaN based UV-LEDs. A staircase electron injector is introduced ... The optical property and injection efficiency of N-face A1GaN based ultraviolet light emitting diodes (UV-LEDs) are studied and compared with Ga-face A1GaN based UV-LEDs. A staircase electron injector is introduced in the N-face AIGaN based UV-LED. The electroluminescence spectra, power-current performance curves, energy band diagrams, carrier concentration and radiative recombination rate are numerically calculated. The results indicate that the N-face UV-LED has a better optical performance than the Ga-face UV-LED, and the injection efficiency is enhanced owing to the fact that the staircase electron injector is available for UV-LEDs. 展开更多
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VO2(B)薄膜的制备及特性优化研究 被引量:5
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作者 魏雄邦 吴志明 +2 位作者 王涛 许向东 蒋亚东 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期1361-1365,共5页
采用直流磁控溅射法,在纯氩气氛中溅射V2O5靶材,在覆盖有氮化硅薄膜的P(100)硅基片表面沉积氧化钒薄膜。对沉积的薄膜进行了后续高真空高温退火处理。利用XRD对薄膜的晶相进行了分析,结果表明退火处理前和退火处理后的薄膜都具有VO2各... 采用直流磁控溅射法,在纯氩气氛中溅射V2O5靶材,在覆盖有氮化硅薄膜的P(100)硅基片表面沉积氧化钒薄膜。对沉积的薄膜进行了后续高真空高温退火处理。利用XRD对薄膜的晶相进行了分析,结果表明退火处理前和退火处理后的薄膜都具有VO2各晶面的取向,XPS分析证明了XRD的物相分析结果。对薄膜的方阻特性的测试表明生成的薄膜是典型的VO2(B)薄膜,退火后的薄膜方阻减小,方阻温度系数也降低。在此基础上,利用薄膜晶界散射理论,通过改变薄膜沉积时间和沉积温度使薄膜的方阻和方阻温度系数随薄膜厚度和晶粒大小而变化,从而使薄膜的电性能达到优化。 展开更多
关键词 VO2(B)薄膜 直流磁控溅射 方阻 方阻温度系数
原文传递
运用有效介质理论模拟氧化钒薄膜的光学特性 被引量:3
18
作者 魏雄邦 廖家轩 +1 位作者 吴志明 蒋亚东 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第S1期106-110,共5页
采用直流反应磁控溅射法在Si(100)基片上生长了厚度分别为14.9,34.1,57.6,70.0,83.4和101.7nm的氧化钒薄膜。利用光谱式椭偏仪,并采用基于Bruggeman有效介质理论的Lorentz经典共振模型对所制备的薄膜的膜厚、折射率、消光系数进行了模... 采用直流反应磁控溅射法在Si(100)基片上生长了厚度分别为14.9,34.1,57.6,70.0,83.4和101.7nm的氧化钒薄膜。利用光谱式椭偏仪,并采用基于Bruggeman有效介质理论的Lorentz经典共振模型对所制备的薄膜的膜厚、折射率、消光系数进行了模拟和测量,实验表明薄膜厚度在(10~100)nm左右时,对应于633.18nm测试波长,薄膜的折射率在1.9~2.9,消光系数在0.1~1。 展开更多
关键词 氧化钒 膜厚 折射率 消光系数 Lorentz共振模型
原文传递
一种二氧化钒膜的新的生长模式
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作者 魏雄邦 蒋亚东 +3 位作者 吴志明 廖家轩 贾宇明 田忠 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第A01期289-292,共4页
采用直流反应磁控溅射法,在Si(100)基片表面沉积厚度为1000nm的二氧化钒膜。利用X射线衍射(XRD)仪和扫描电镜(SEM)分析膜的晶相和形貌,观察到二氧化钒膜的一种新的生长模式。X射线衍射分析表明生成的膜为典型的多晶二氧化钒膜,其(200)... 采用直流反应磁控溅射法,在Si(100)基片表面沉积厚度为1000nm的二氧化钒膜。利用X射线衍射(XRD)仪和扫描电镜(SEM)分析膜的晶相和形貌,观察到二氧化钒膜的一种新的生长模式。X射线衍射分析表明生成的膜为典型的多晶二氧化钒膜,其(200)晶面衍射峰较强。扫描电镜(SEM)分析表明,随着膜厚的增加,膜表面晶粒增大,膜表面的晶粒呈现出独特的"纺锤"状或"棒"状;膜具有明显的"柱"状生长特征,在膜厚380nm以上时,"柱状"晶生长速率快速提高。样品的阻温特性分析表明,生成的二氧化钒膜具有典型的金属-半导体相变特征。 展开更多
关键词 二氧化钒膜 膜厚 直流磁控溅射
原文传递
一种新型Pd纳米团簇/TiO_2纳米管复合结构氢传感器的室温氢敏特性研究 被引量:2
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作者 吴涛 魏雄邦 +4 位作者 杨小慧 吴双红 吕国栋 全勇 陈志 《中国科学:技术科学》 EI CSCD 北大核心 2017年第4期418-422,共5页
将TiO_2纳米管和Pd纳米团簇相复合,用金属Ag作电极,制备出一种新型Pd纳米团簇/TiO_2纳米管复合结构氢传感器,采用SEM对复合结构的微结构进行表征,分析表明Pd纳米团簇孤立地沉积在TiO_2纳米管的管口顶端,XRD对复合材料的晶型分析表明,经... 将TiO_2纳米管和Pd纳米团簇相复合,用金属Ag作电极,制备出一种新型Pd纳米团簇/TiO_2纳米管复合结构氢传感器,采用SEM对复合结构的微结构进行表征,分析表明Pd纳米团簇孤立地沉积在TiO_2纳米管的管口顶端,XRD对复合材料的晶型分析表明,经过500℃的退火处理,无定型的TiO_2已经转变为锐钛矿和金红石晶型,在室温下,这种复合结构的氢气传感器对不同浓度的氢气具有优异的响应性能,在8000 ppm的氢气浓度下,传感器的响应时间为3.8s,灵敏度为92.05%,利用TiO_2纳米管的表面结构和金属Pd团簇的复合结构特性,可以制备得到在室温下具有响应时间短、灵敏度高等特点的氢气传感器. 展开更多
关键词 TIO2纳米管 Pd纳米团簇/TiO2纳米管复合结构 氢气传感器
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