硅膜片可变焦反射镜

半导体激光器的发明，推动了将受光元件、发光元件、光波导和微透镜系统等集成于同一衬底上的光集成组合元件的研究。目前，正在进行着利用微机械技术使各种微小光学元件和驱动这些元件的传动机构更加小型化的研究。其中也包括对可变焦透镜和反射镜的各种试制方案的研究。然而，到目前为止，尚无在上述研究项目中达到实用化的报道。

菲涅耳透镜式可变焦液晶透镜

液晶具有其它光学材料所不具备的特长，仅以几伏的低电压，即可使其有效折射率从非常光(e光)到寻常光(o光)实现连续可变控制。它不仅可制成平面式显示器，而且有望被应用到各种光学仪器上。本文对光学特性较易被控制的向列液晶及以其为光学材料制成的具有焦点可变特性的液晶透镜，作如下叙述。

有机电光聚合物层叠式光开关

采用具有电光(EO)效应的聚合物开发出了在1.3μm光波段使用的、具有良好控制性能的单模通道波导的制作方法.利用这种方法制作了具有不同层间通道波导的层叠式定向耦合器,观察到了模式耦合光在不同层间的波导.进而又在这种层叠式定向耦合器上附设了电极结构.在施加电压时,可对从上层和下层各自通道波导中出射的光进行调制.本文在对这种采用EO聚合物的波导的制作技术及其性能进行说明的同时,还阐述了将其作为开关元件使用的可能性.

现代物理光学研究的热点问题

1 基础光学1.1 相干、衍射和干涉在光谱变化现象中,各种频率成份的空间相干性显得非常重要。据报道,已有人利用波面叠加干涉仪测试多光谱相干度的手段来展示这种空间相干性。采用这种干涉仪,从具有不同光谱双点光源的夫琅和费以及菲涅耳域的多光谱相干度着手,根据范西特—泽尼克定理,要求的光源位置,进行了光谱再现的试验。另外,还尝试将辐射传输理论与相干理论结合起来,提出了将传统的准单色假设向多色领域扩展的概念。

人造视网膜摄像机

对人类来讲实时图像处理是非常简单的,而对目前的计算机来讲却是非常困难的。因此,开发类似于人类视觉的图像处理技术。是进入多媒体时代所必需的。 目前,由CCD与专用图像处理器组合的系统。

空间光学用高灵敏度传感器“329614”

当今社会已普及了计算机,正进入多媒体时代.随之,对信息的处理也正迅速地向高速化、高密度化的方向发展.光磁盘、遥控、液晶显示和等离子体显示等光学仪器和系统得到广泛利用.在这类仪器中,将光信号转换成电信号的光电转换器是不可缺少的.为提高这类仪器的性能,必须开发速度更快、灵敏度更高的产品.为此。

X射线光刻技术

X射线光刻技术是利用比可见光波长短1～2个数量级的软X射线为光源进行曝光的技术.目前已开发出两种方式.一种是将掩模和晶片置于数十微米以内的近帖间距内,以波长1nm左右的软X射线为光源对掩模和晶片进行1:1曝光的等倍近贴曝光方式.另一种是以波长10nm左右的软X射线为光源,通过多层膜反射镜的光学系统进行曝光的缩小投影曝光方式.图1为这两种X射线光刻方式的分辨极限示意图.

X射线光刻技术

在LSI日益加快向高集成化、高速化发展的同时,推动LSI发展的16M比特动态随机存取存储器(DRAM)已达到批量生产的水平.目前高集成化速度每三年提高四倍,预计今后仍将按这个速度持续下去.在光刻技术中作为重要指标的最小图形尺寸每代缩小30%.据预测,256M比特DRAM的最小尺寸为0.25～0.2μm、1G bit为0.18～0.15μm、4G bit为0.12～0.1μm.

微机械的三维微细加工技术

在微机械加工中,三维微细加工是不可缺少的。加工方式有复制掩模图使图形一次形成的方式和用聚焦光束等通过描绘使图形逐次形成的方式。这些方式被应用在立体微细加工或表面微细加工上,复制方式中,开发了作为立体加工的、可高速穿透蚀刻基板的低温高速反应离子蚀刻(RIE)技术和作为表面加工的投影光化学气相淀积(CVD)技术。描绘方式中,开发了作为立体加工的硅激光辅助蚀刻技术和作为表面加工的、可在非平面聚合物上形成金属配线的激光CVD技术。这些技术己被应用在微型传感器与微型致动器的制造上。