石墨烯或氧化石墨烯改性有机涂层耐蚀性能的研究现状

介绍了石墨烯和氧化石墨烯的功能化方法及其改性有机涂层在防腐领域中的研究现状,探讨了现阶段研究所面临的问题与未来的研究方向。

锌粉改性及填料对富锌涂层耐蚀性能影响的研究进展

富锌涂层因其独特的防腐蚀性能而广泛地应用于各种腐蚀环境中。综述了锌粉改性及填料对富锌涂层耐蚀性能的影响及研究进展,并展望了富锌涂层的未来发展趋势和应用前景。

大豆结瘤相关QTL优化和候选基因挖掘

氮是植物生长必须的大量元素之一,大豆根瘤菌共生可以为大豆提供充足的氮元素。研究大豆根瘤菌共生机理,挖掘控制共生结瘤候选基因具有重要意义。鉴于现阶段关于调控大豆共生结瘤QTL区间大,无法直接应用到实际中,本实验整理了68个控制大豆结瘤的QTLs,通过Overview和共线性分析对其进行优化,在Gm06染色体上得到一个高置信QTLs区间对该区间进行了基因注释得到43个基因,其中包括一个控制C2钙/脂质结合和含GRAM结构域的蛋白质,一个侧根形成蛋白和一个E3泛素连接酶相关蛋白,并在CSSLs群体中查找该位置存在插入片段的株系进行结瘤性状鉴定。结果表明C2连锁群上的15-15.5Mb对于大豆根瘤菌共生结瘤有着至关重要的作用。

大豆叶绿素含量QTL定位及候选基因预测

叶绿素是调节光合作用的关键色素,对籽粒形成有着重要作用。本研究以美国半矮秆大豆Charleston为母本,东北地区主栽品种东农594为父本杂交衍生的147个重组自交系群体为材料,基于经SLAF测序获得的大豆高密度遗传图谱,利用复合区间作图法(CIM)、多重区间作图法(MIM)和完备区间作图法(ICIM)对大豆叶绿素含量进行QTL联合定位分析,并结合大豆基因组基因注释信息对QTL区段内的候选基因进行预测。利用CIM算法定位出2个QTL,表型遗传贡献率分别为6%和9.3%。利用MIM算法定位到了1个QTL,表型遗传贡献率为8.1%。利用ICIM算法定位到了1个QTL,表型遗传贡献率为7.76%。其中qchl-G-1被CIM和MIM两种算法同时检测到。在上述3个QTL区段内共含有151个基因,根据大豆基因组基因注释信息,筛选到了3个与叶绿素相关的候选基因,这些结果为叶绿素含量的遗传剖析和标记辅助育种提供理论基础,有利于分子辅助育种的发展。

大豆冠层参数的QTL定位及上位性互作分析

本研究采用主基因+多基因混合遗传模型分离分析法对大豆冠层的叶面积指数(leaf area index,LAI)、无截取散射(diffuse none-interceptance,DIFN)、平均叶倾角(mean leaf angle,MTA)3个参数进行遗传分析,并利用Win QTL Cartographer Version 2.5程序的复合区间作图法(CIM)及完备区间作图法QTL Ic IMapping软件进行QTL定位和上位性互作分析。染色体片段置换系(chromosome segment substitution lines,CSSL)群体冠层参数中,LAI最适模型为4MG-AI,DIFN最适模型为4MG-A,MTA两个最适模型为2MG-Duplicate和2MG-Inhibiting,重组自交系(recombinant inbred lines,RIL)群体冠层中LAI最适模型为4MG-EEEA,DIFN最适模型为4MG-A,MTA两个最适模型为2MG-Duplicate和2MG-Inhibiting。两套群体共检测到2个LAI相关的QTL位点,分别位于A1、I连锁群上。检测到22个与DIFN相关的QTL位点,分别位于A1、D1b、F、J、L、N、M、A2、K、B2、I、D1a连锁群上。检测到7个MTA相关的QTL位点,分别位于C2、E、I、A1、D1a连锁群上。CSSL群体冠层参数数据分析中发现,q LAI-A1-1和q DIF,N-A1-1同时在A1连锁群上的3 691~34 163 kb处检测到,q DIFN-A1-2和q MTA-A1-1同时在A1连锁群上的38 669~40 501 kb处检测到,两个位点可能为一因多效位点。仅在RIL群体冠层参数中发现6对QTL间存在着互作效应,在J、A1、B1、F、B2、E、D2连锁群上,在J连锁群上的q DIFN-J-1与A1连锁群上的q DIFN-A1-1和B1连锁群上的q DIFN-B1-1同时发生互作。