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次磷酸钠化学镀铜镍合金的研究 被引量:9
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作者 杨防祖 杨斌 +3 位作者 黄剑廷 吴丽琼 黄令 周绍民 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 2006年第7期1-3,14,共4页
研究了以次磷酸钠为还原剂的化学镀铜过程。分析了温度、pH、硫酸镍含量对化学镀铜沉积速率的影响及镀层的表面形貌和结构。结果表明,沉积速率随着镀液温度、pH和N i离子浓度的提高而增大。镀层组分含量和XRD实验结果表明镀层为铜镍合金... 研究了以次磷酸钠为还原剂的化学镀铜过程。分析了温度、pH、硫酸镍含量对化学镀铜沉积速率的影响及镀层的表面形貌和结构。结果表明,沉积速率随着镀液温度、pH和N i离子浓度的提高而增大。镀层组分含量和XRD实验结果表明镀层为铜镍合金,呈面心立方结构,晶面间距d与晶胞参数a与标准Cu-N i的相比略大。SEM实验表明,镀层表面形貌为团粒状,颗粒大小较不均匀。 展开更多
关键词 化学镀铜 次磷酸钠 沉积速率 铜镍合金
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