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次磷酸钠化学镀铜镍合金的研究
被引量:
9
1
作者
杨防祖
杨斌
+3 位作者
黄剑廷
吴丽琼
黄令
周绍民
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
2006年第7期1-3,14,共4页
研究了以次磷酸钠为还原剂的化学镀铜过程。分析了温度、pH、硫酸镍含量对化学镀铜沉积速率的影响及镀层的表面形貌和结构。结果表明,沉积速率随着镀液温度、pH和N i离子浓度的提高而增大。镀层组分含量和XRD实验结果表明镀层为铜镍合金...
研究了以次磷酸钠为还原剂的化学镀铜过程。分析了温度、pH、硫酸镍含量对化学镀铜沉积速率的影响及镀层的表面形貌和结构。结果表明,沉积速率随着镀液温度、pH和N i离子浓度的提高而增大。镀层组分含量和XRD实验结果表明镀层为铜镍合金,呈面心立方结构,晶面间距d与晶胞参数a与标准Cu-N i的相比略大。SEM实验表明,镀层表面形貌为团粒状,颗粒大小较不均匀。
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关键词
化学镀铜
次磷酸钠
沉积速率
铜镍合金
下载PDF
职称材料
题名
次磷酸钠化学镀铜镍合金的研究
被引量:
9
1
作者
杨防祖
杨斌
黄剑廷
吴丽琼
黄令
周绍民
机构
厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室
出处
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
2006年第7期1-3,14,共4页
基金
国家科技攻关计划项目(2004BA325C)
文摘
研究了以次磷酸钠为还原剂的化学镀铜过程。分析了温度、pH、硫酸镍含量对化学镀铜沉积速率的影响及镀层的表面形貌和结构。结果表明,沉积速率随着镀液温度、pH和N i离子浓度的提高而增大。镀层组分含量和XRD实验结果表明镀层为铜镍合金,呈面心立方结构,晶面间距d与晶胞参数a与标准Cu-N i的相比略大。SEM实验表明,镀层表面形貌为团粒状,颗粒大小较不均匀。
关键词
化学镀铜
次磷酸钠
沉积速率
铜镍合金
Keywords
electroless copper plating
sodium hypophosphite
deposition rate
Cu-Ni alloy
分类号
TG178 [金属学及工艺—金属表面处理]
TQ153 [化学工程—电化学工业]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
次磷酸钠化学镀铜镍合金的研究
杨防祖
杨斌
黄剑廷
吴丽琼
黄令
周绍民
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
2006
9
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