期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
离子束溅射淀积速率的计算 被引量:2
1
作者 黄壮锐 姜祥祺 陈国梁 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 1990年第1期17-21,共5页
一、引言离子束溅射技术已广泛应用于表面刻蚀和制备薄膜。由于离子束电流强度和加速电压能够独立地调节,并且衬底与离子源之间有较大的距离,因而离子能量、电流密度、衬底温度和离子束入射角都能分别控制。离子束溅射还能在比通常的射频。
关键词 离子束溅射 衬底温度 磁控溅射镀膜 刻蚀速率 元素靶 加速电压 薄膜生长 超导薄膜 速率表 离子能量
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部