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离子束溅射淀积速率的计算
被引量:
2
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作者
黄壮锐
姜祥祺
陈国梁
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
1990年第1期17-21,共5页
一、引言离子束溅射技术已广泛应用于表面刻蚀和制备薄膜。由于离子束电流强度和加速电压能够独立地调节,并且衬底与离子源之间有较大的距离,因而离子能量、电流密度、衬底温度和离子束入射角都能分别控制。离子束溅射还能在比通常的射频。
关键词
离子束溅射
衬底温度
磁控溅射镀膜
刻蚀速率
元素靶
加速电压
薄膜生长
超导薄膜
速率表
离子能量
下载PDF
职称材料
题名
离子束溅射淀积速率的计算
被引量:
2
1
作者
黄壮锐
姜祥祺
陈国梁
机构
复旦大学
上海冶金研究所
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
1990年第1期17-21,共5页
文摘
一、引言离子束溅射技术已广泛应用于表面刻蚀和制备薄膜。由于离子束电流强度和加速电压能够独立地调节,并且衬底与离子源之间有较大的距离,因而离子能量、电流密度、衬底温度和离子束入射角都能分别控制。离子束溅射还能在比通常的射频。
关键词
离子束溅射
衬底温度
磁控溅射镀膜
刻蚀速率
元素靶
加速电压
薄膜生长
超导薄膜
速率表
离子能量
分类号
TB7-55 [一般工业技术—真空技术]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
离子束溅射淀积速率的计算
黄壮锐
姜祥祺
陈国梁
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
1990
2
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