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题名喷墨打印量子点薄膜制备的影响因素研究
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作者
张婉
黄琳泓
胡馨元
吴优
闵思源
黄蓓青
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机构
北京印刷学院印刷与包装工程学院
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出处
《包装工程》
CAS
北大核心
2024年第7期23-30,共8页
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基金
国家自然科学基金(62275025)
北京市新兴交叉学科平台项目
+1 种基金
北京印刷学院校级创新团队项目(Ea202203)
北京市级大学生创新训练项目(S202310015038)。
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文摘
目的为了通过喷墨打印技术很好地实现量子点薄膜图案化,需要调节量子点薄膜制备工艺的各项参数以获得表面均匀、厚度适宜和无咖啡环结构的量子点薄膜。方法基板和退火是影响量子点薄膜成膜性能的2个重要参数,分别研究基板的清洗、材料和温度以及退火的温度和时间对喷墨打印量子点薄膜成膜性能的影响。结果选择3种不同类型的溶剂依次清洗可提高基板表面能,有利于墨水的铺展;PVK基板的量子点面薄膜形貌相较于Pedot:Pss更均匀;当基板温度为50℃、退火温度为80℃或90℃、退火时间为15 min时,咖啡环效应最弱,可获得表面均匀、厚度适宜和无咖啡环结构的量子点薄膜。结论基板的清洗、自身材料以及温度都会影响墨水的铺展性能,从而影响量子点薄膜的成膜性能;控制退火温度与退火时间,以使马兰戈尼流起作用,咖啡环效应被明显抑制,可以获得表面均匀的量子点薄膜。
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关键词
喷墨打印
量子点薄膜
基板
退火
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Keywords
inkjet printing
quantum dot film
substrate
annealing
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分类号
TB34
[一般工业技术—材料科学与工程]
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