金属氧化物薄膜的超声雾化喷涂

薄膜技术已广泛用于工业各部门。SnO_2、In_2O_3、ITO等透明导电薄膜是摄象管、太阳电池、光敏元件、液晶显示、抗静电层、防霜膜及家用电器的重要材料。随着工业技术的发展,薄膜技术必将深入到工业部门的更多领域。因此,寻找高质量、廉价的薄膜制造方法显得重要起来。迄今为止,薄膜的制造方法有:化学喷涂、化学气相沉积等化学方法,真空蒸发、溅射、离子镀等物理方法和辉光放电气相沉积的物理化学方法。其中化学喷涂,虽然成本低、能大面积连续生产,但薄膜质量难于控制,对膜层质量要求高的场合不能使用;化学气相沉积、真空镀膜和辉光放电气相沉积,虽能获得高质量膜层,但成本高,难于大面积化。

BaRuO3电阻薄膜制备技术

ＭＲｕＯ３系电阻薄膜是高热稳定的电阻薄膜材料。本文介绍用高频反应溅射制备ＢａＲｕＯ３电阻薄膜技术。并用电镜、ｘ－射线衍射仪、多功能电子能谱仪观察测得ＢａＲａＯ３薄膜的形貌、晶体结种、组成。结果表明：高频反应溅射制备的ＢａＲｕＯ３薄膜为六方结构（１１０）取向的多晶薄膜，由高低温下的电阻测定表明，该膜质有稳定的电阻温度系数和高温热稳定性能，是理想的发热电阻材料。