期刊文献+
共找到2篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
全离子注入技术在硅栅CMOS工艺中的应用
1
作者 齐隆 《微电子学》 CAS CSCD 1992年第2期56-61,共6页
本文运用有关离子注入的原理和射程分布损伤机理等理论,结合作者所在工厂的硅栅CMOS工艺中应用全离子注入技术的实验数据及实践经验,对注入工艺参量与器件工艺参数的相关性及注入质量的控制等进行了探讨;就注入过程中的若干影响因素,寻... 本文运用有关离子注入的原理和射程分布损伤机理等理论,结合作者所在工厂的硅栅CMOS工艺中应用全离子注入技术的实验数据及实践经验,对注入工艺参量与器件工艺参数的相关性及注入质量的控制等进行了探讨;就注入过程中的若干影响因素,寻求到了有效的解决方法。此技术已用于作者所在厂的我厂门阵列产品的研制和生产中,取得了令人满意的结果。 展开更多
关键词 离子注入 CMOS 工艺 门阵列
下载PDF
雄关漫道真如铁
2
作者 齐隆 谷青 《上海财税》 1996年第9期24-26,共3页
关键词 钢铁工业 上钢系统 钢材市场 二次化铁炼钢 技术改造 支柱产业 降低成本 产品成本 经济增长 真如
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部