开拓进取求发展 捐资助教育英才——记建设部劳模、胜芳镇建筑工程公司经理王乃让

他,身材不高,却取得了令人瞩目的成绩;他,不失农民的憨厚与质朴,却能在激烈的市场竞争中发展壮大,产品远销日本、台湾;他对自己的生活很苛刻,却慷慨地捐资助教。他稳健而幽默,言谈中时时闪现出智慧的火花;他爱笑,微笑着回顾走过的沟沟坎坎,微笑着迎接美好的未来。他就是廊坊市胜芳镇建筑公司经理、建设部劳模王乃让。

IFBA芯块ZrB_2涂层溅射沉积工艺研究

采用国产多靶磁控溅射镀膜机在UO_2陶瓷IFBA芯块表面上溅射沉积ZrB_2涂层。利用金相显微镜、扫描电子显微镜、X射线衍射仪、电感耦合等离子体发射光谱仪、胶带粘附性剥离等方法测定了沉积ZrB_2涂层的厚度、形貌、物相结构、成分、附着力以及沉积速率等性能参数,研究了各溅射工艺条件如芯块表面清洁度、溅射气体压力、溅射功率密度和转鼓转速对ZrB_2涂层沉积率和附着力的影响。结果表明,在功率密度57~72 kW/m^2之间,ZrB_2涂层的沉积率随功率密度的增加而增加;当转鼓转速大于0.6 rpm时ZrB_2涂层沉积率急剧下降;当溅射气体压力为1.8 mtorr时涂层的沉积率最大,膜基结合良好;在44~54 KWH平均千瓦时值之间,涂敷芯块经过热冲击处理后附着力Z值均远小于0.0008 g,膜基结合力无明显变化。经过对比发现,UO_2表面清洁度越高,ZrB_2涂层与基体的结合越好,结构为单一的ZrB_2物相,呈柱状晶垂直于基体表面生长,涂层厚度均匀,晶粒细小,满足IFBA芯块的ZrB_2涂层性能指标。

单一相ZrB2靶材制备及镀膜表征

以氧化锆(ZrO2)、硼酸(H3BO3)和碳粉(C)为原料,硼(B)粉为添加剂,采用碳热还原法合成硼化锆(ZrB2)粉体,在真空碳管炉中,采用氩气气氛保护,加热升温至1900℃合成ZrB2粉体,然后利用热压烧结,在70 MPa、温度1980℃、保温保压时间4 h的热压工艺制备ZrB2靶材,对制备获得的ZrB2靶材进行溅射镀膜表征。通过X射线衍射(XRD)分析产物物相,扫描电镜(SEM)观察产物微观形貌。研究结果表明:添加5%(质量分数)的B粉,可合成单一相ZrB2粉体,颗粒平均尺寸为2~3μm,合成的ZrB2粉体具有良好的烧结活性,在不添加任何烧结助剂的条件下采用热压烧结工艺可获得相对密度为93%的单一相ZrB2靶材。磁控溅射镀膜表明,在功率密度60 kW·m-2、连续溅射3 h条件下,沉积的膜层均匀致密,厚度约为8.6μm;10次溅射实验表明,靶材溅射速率稳定,平均溅射速率约52.4 g·kWh-1·m-2;且在相同溅射条件下,与进口商业化ZrB2靶材的溅射速率性能相当。