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羟基磷灰石溶解度等温线的测定
被引量:
3
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作者
陈卓凡
b w darvell
V
w
-H Leung
《中国口腔种植学杂志》
2003年第4期160-163,共4页
目的:应用微量添加固体滴定和激光散射法测定HA(37℃ )溶解度等温线。方法:滴定物为HA。半导体二极管激光为发射光源,散射光源探测器用于监测超过溶解平衡点出现的沉淀。微量添加固体滴定所引发的沉淀引起散射光源显著且恒定地高于基线...
目的:应用微量添加固体滴定和激光散射法测定HA(37℃ )溶解度等温线。方法:滴定物为HA。半导体二极管激光为发射光源,散射光源探测器用于监测超过溶解平衡点出现的沉淀。微量添加固体滴定所引发的沉淀引起散射光源显著且恒定地高于基线,由此判断溶液已处于过饱和状态,该固体滴定总量用于代表溶解度等温线的数据点。结果:HA溶解度等温线(37℃ )由6次滴定合共50个滴定终点构成。与传统方法所得结果比较,本实验所得HA的溶解度约为过往结果的百份之一。结论:微量添加固体滴定和激光散射法利于研究HA的溶解平衡且能得到准确的HA溶解度等温线。
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关键词
羟基磷灰石
测定
溶解度等温线
微量添加固体滴定法
激光散射法
口腔种植学
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职称材料
题名
羟基磷灰石溶解度等温线的测定
被引量:
3
1
作者
陈卓凡
b w darvell
V
w
-H Leung
机构
中山大学光华口腔医学院附属口腔医院
香港大学牙医学院
出处
《中国口腔种植学杂志》
2003年第4期160-163,共4页
文摘
目的:应用微量添加固体滴定和激光散射法测定HA(37℃ )溶解度等温线。方法:滴定物为HA。半导体二极管激光为发射光源,散射光源探测器用于监测超过溶解平衡点出现的沉淀。微量添加固体滴定所引发的沉淀引起散射光源显著且恒定地高于基线,由此判断溶液已处于过饱和状态,该固体滴定总量用于代表溶解度等温线的数据点。结果:HA溶解度等温线(37℃ )由6次滴定合共50个滴定终点构成。与传统方法所得结果比较,本实验所得HA的溶解度约为过往结果的百份之一。结论:微量添加固体滴定和激光散射法利于研究HA的溶解平衡且能得到准确的HA溶解度等温线。
关键词
羟基磷灰石
测定
溶解度等温线
微量添加固体滴定法
激光散射法
口腔种植学
Keywords
Hydroxyapatite
Calcium phosphates
Solubility
分类号
R783.1 [医药卫生—口腔医学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
羟基磷灰石溶解度等温线的测定
陈卓凡
b w darvell
V
w
-H Leung
《中国口腔种植学杂志》
2003
3
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