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SOI/MOSFET Kink效应的模拟和分析
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作者 王晓晖 汤庭鳌 +2 位作者 郑大卫 黄宜平 c.a.pazde araujo 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1993年第3期228-232,共5页
非全耗尽SOI/MOS晶体管由于存在“Kink效应”而限制了它的应用范围。本文考虑了沟道夹断区的碰撞电离和横向寄生晶体管效应,对浮置衬底SOI/nMOS晶体管的电流—电压特性曲线进行了理论计算,讨论了Kink效应的产生机理。计算结果与实验符... 非全耗尽SOI/MOS晶体管由于存在“Kink效应”而限制了它的应用范围。本文考虑了沟道夹断区的碰撞电离和横向寄生晶体管效应,对浮置衬底SOI/nMOS晶体管的电流—电压特性曲线进行了理论计算,讨论了Kink效应的产生机理。计算结果与实验符合甚好。对器件参数的分析可以定性地指导抑制Kink效应的器件优化设计。 展开更多
关键词 SOI结构 MOS场效应管 KINK效应
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