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SOI/MOSFET Kink效应的模拟和分析
1
作者
王晓晖
汤庭鳌
+2 位作者
郑大卫
黄宜平
c.a.pazde araujo
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1993年第3期228-232,共5页
非全耗尽SOI/MOS晶体管由于存在“Kink效应”而限制了它的应用范围。本文考虑了沟道夹断区的碰撞电离和横向寄生晶体管效应,对浮置衬底SOI/nMOS晶体管的电流—电压特性曲线进行了理论计算,讨论了Kink效应的产生机理。计算结果与实验符...
非全耗尽SOI/MOS晶体管由于存在“Kink效应”而限制了它的应用范围。本文考虑了沟道夹断区的碰撞电离和横向寄生晶体管效应,对浮置衬底SOI/nMOS晶体管的电流—电压特性曲线进行了理论计算,讨论了Kink效应的产生机理。计算结果与实验符合甚好。对器件参数的分析可以定性地指导抑制Kink效应的器件优化设计。
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关键词
SOI结构
MOS场效应管
KINK效应
下载PDF
职称材料
题名
SOI/MOSFET Kink效应的模拟和分析
1
作者
王晓晖
汤庭鳌
郑大卫
黄宜平
c.a.pazde araujo
机构
复旦大学电子工程系
University
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1993年第3期228-232,共5页
文摘
非全耗尽SOI/MOS晶体管由于存在“Kink效应”而限制了它的应用范围。本文考虑了沟道夹断区的碰撞电离和横向寄生晶体管效应,对浮置衬底SOI/nMOS晶体管的电流—电压特性曲线进行了理论计算,讨论了Kink效应的产生机理。计算结果与实验符合甚好。对器件参数的分析可以定性地指导抑制Kink效应的器件优化设计。
关键词
SOI结构
MOS场效应管
KINK效应
Keywords
SOI Structure, MOS Field Effect Transistor, Impact Ionization,
分类号
TN386 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
SOI/MOSFET Kink效应的模拟和分析
王晓晖
汤庭鳌
郑大卫
黄宜平
c.a.pazde araujo
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1993
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