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基于硅的锗外延技术实现高性能CMOS器件
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作者 C.Werkhoven c.arena m.bauer +2 位作者 P.Brabant M.Meuris T.Valentina L.Souriau 《集成电路应用》 2006年第11期35-37,共3页
相对于采用选择性锗硅外延的应变硅而言,基于锗工艺制造的 PMOS 能够进一步提高其驱动能力。将适当的锗前驱物安装在标准硅外延设备上就可以生产锗硅(GOS)晶圆。
关键词 CMOS器件 应变硅 锗硅 技术实现 性能 驱动能力 PMOS 工艺制造
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