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凤凰山宕口填土边坡稳定性分析计算与评价 被引量:1
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作者 匡俊 陈芋如 +3 位作者 朱仁民 曹建林 唐强 孙俊芳 《江苏建筑》 2022年第2期107-111,共5页
文章以苏州市科技城凤凰山废弃宕口填土边坡为主要研究对象,基于宕口填土边坡基本特征及潜在危害性,运用GeoStudio软件对边坡渗流场及其稳定性进行了分析。利用软件中的Seep/W、Slope/W模块模拟降雨等因素对该边坡稳定性的影响。通过计... 文章以苏州市科技城凤凰山废弃宕口填土边坡为主要研究对象,基于宕口填土边坡基本特征及潜在危害性,运用GeoStudio软件对边坡渗流场及其稳定性进行了分析。利用软件中的Seep/W、Slope/W模块模拟降雨等因素对该边坡稳定性的影响。通过计算得到结论:北坡南段边坡在自然工况下处于稳定状态,但在暴雨工况下其安全系数均在1.0左右,边坡处于极限状态或不稳定状态,需要采取相应的治理措施。 展开更多
关键词 边坡滑动 渗流场 GeoStudio 稳定性分析 降雨
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基于离散元的废弃宕口边坡稳定性分析
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作者 匡俊 陈芋如 +3 位作者 朱仁民 曹建林 居俊 唐强 《中国港湾建设》 2022年第3期5-9,共5页
为研究土质边坡的变形破坏模式,以苏州市科技城凤凰山弃土场边坡为主要研究对象,采用离散元数值模拟方法对其滑坡过程进行分析。研究结果表明:边坡的临界坡角为32°,此时边坡整体达到极限平衡状态。经实地踏勘,现场坡角最大值为58&#... 为研究土质边坡的变形破坏模式,以苏州市科技城凤凰山弃土场边坡为主要研究对象,采用离散元数值模拟方法对其滑坡过程进行分析。研究结果表明:边坡的临界坡角为32°,此时边坡整体达到极限平衡状态。经实地踏勘,现场坡角最大值为58°。边坡由于蠕动变形,坡顶已出现明显的裂缝。通过离散元软件对这一现象进行分析。结果表明,在该工况条件下,随着时间的推移,边坡由最初的蠕动变形到最终形成稳定的圆弧形滑动面,颗粒最大位移达到10.4 m。边坡中部颗粒不断堆积,导致其正应力呈非线性增长,峰值应力达到115.24 kPa。剪应力在整个滑动过程中变化幅度不明显,坡脚的剪应力最大值为70.84 kPa。 展开更多
关键词 边坡滑动 离散元 实地踏勘 破坏机理 稳定性分析
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基于离散元法的边坡填土剪切性能分析
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作者 匡俊 陈芋如 +4 位作者 朱仁民 曹建林 周俊 唐强 孙俊芳 《地基处理》 2022年第5期380-386,共7页
为了从微观角度分析边坡填土剪切性能的影响规律,以苏州市科技城凤凰山弃土场为研究对象,从现场取得的样品中将试样大体分为4种级配,利用颗粒流离散元软件构建直剪试验模型,研究关于剪切位移、剪切带以及接触网络的微观特征演化规律。... 为了从微观角度分析边坡填土剪切性能的影响规律,以苏州市科技城凤凰山弃土场为研究对象,从现场取得的样品中将试样大体分为4种级配,利用颗粒流离散元软件构建直剪试验模型,研究关于剪切位移、剪切带以及接触网络的微观特征演化规律。研究结果表明,试样在剪切过程中表现出应变软化和屈服的特点。当试样进入剪切后期,剪应力达到峰值,其中中值粒径最大的杂填土试样的抗剪强度最高,峰值剪切应力达到327.74 kPa;颗粒位移呈水平带状分布,形成剪切带,宽度为1.52 cm左右;同时,力链网络中强力链显著聚集,与水平方向大约呈60°夹角,最大接触力达到1578.5 kN;随着中值半径的减小,剪切带的宽度以及最大接触力不断减小。在级配不良的样品内部,颗粒之间的嵌挤作用较弱,使得颗粒之间容易形成相对剧烈的相互错动。因此,黏性土中值粒径最小,剪切带宽度最小,最大的接触力最小,最容易发生剪切破坏。 展开更多
关键词 边坡 直剪试验 离散元方法 级配 中值粒径 剪切带 力链网络 最大接触力
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Announcement to the optics community 被引量:1
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作者 cao jian-lin Chen Xing-dan 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期626-626,共1页
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Stability of Mo/Si Multilayer Structure Used in Bragg-Fresnel Optics
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作者 LE Zi-chun cao jian-lin +4 位作者 LIANG Jing-qiu PEI Shu YAO Jin-song CUI Cheng-jia LI Xing-lin 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 1998年第7期522-524,共3页
The thermal and chemical stabilities of Mo/Si multilayer structure used in Bragg-Fresnel optics were studied to get optimal technological parameters of pattern generation.Mo/Si multilayers were annealed at temperature... The thermal and chemical stabilities of Mo/Si multilayer structure used in Bragg-Fresnel optics were studied to get optimal technological parameters of pattern generation.Mo/Si multilayers were annealed at temperature ranging from 360 to 770 K,treated with acetone and 5‰NaOH solution,and characterized by small-angle x-ray diffraction technique as well as x-ray photoelectron spectroscopy and Olympus microscopy. 展开更多
关键词 MO/SI FRESNEL OPTICS
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