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Pt在Ni(Pt)-Si-O固相反应中的影响(英文)
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作者 任卫 chi dongzhi 《复旦学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期318-323,共6页
深亚微米尺度(90 nm)下,对在金属Ni膜中加入微量Pt,再经过高温退火形成NiSi.对该固相反应的反应序列进行了研究.研究发现Ni2Si-to-NiSi转变温度由300℃提高到350℃;NiSi-to-NiSi2转变温度由640℃提高到775℃;而且,NiSi薄膜的形貌在750... 深亚微米尺度(90 nm)下,对在金属Ni膜中加入微量Pt,再经过高温退火形成NiSi.对该固相反应的反应序列进行了研究.研究发现Ni2Si-to-NiSi转变温度由300℃提高到350℃;NiSi-to-NiSi2转变温度由640℃提高到775℃;而且,NiSi薄膜的形貌在750℃才开始发生Agglomeration现象. 展开更多
关键词 镍硅化物 固相反应 快速热处理 扩散 二次离子质谱
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