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运用互补性显微术在终极尺度上三维重构并分析同一个纳米级样品
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作者 A.Grenier R.Serra +8 位作者 G Audoit J.P.Barnes D.Cooper S.Duguay d.blavette N.Rolland F Vurpillot P.Morin Pascal Gouraud 《中国集成电路》 2015年第8期54-58,79,共6页
运用两种不同的纳米尺度或原子尺度测量分析方法分析同一个样品,对完全掌握一种材料或产品的属性至关重要,这种优势互补的分析方法特别适用于测定MOSFET、FINFET等新一代纳米级晶体管的掺杂分布情况。本文综合电子断层扫描技术(ET)与... 运用两种不同的纳米尺度或原子尺度测量分析方法分析同一个样品,对完全掌握一种材料或产品的属性至关重要,这种优势互补的分析方法特别适用于测定MOSFET、FINFET等新一代纳米级晶体管的掺杂分布情况。本文综合电子断层扫描技术(ET)与原子探针层析技术(APT)两种表征方法,研究纳米级晶体管中硼原子空间分布特征。 展开更多
关键词 电子断层扫描(ET) 原子探针层析(APT) CMOS器件
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