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薄膜沉积过程中的粒子轰击效应
1
作者
罗崇泰
d.m.mattox
《真空与低温》
1990年第3期40-45,共6页
一、前言在真空和低压环境中,将可凝性原子(吸附原子)传输到一表面来制备薄膜。产生吸附原子的方法有热蒸发、物理溅射、气相粒子、其它蒸发源,诸如真空或等离子体电弧。影响薄膜各生长阶段的主要参数有基底温度;沉积速率;沉积粒子的入...
一、前言在真空和低压环境中,将可凝性原子(吸附原子)传输到一表面来制备薄膜。产生吸附原子的方法有热蒸发、物理溅射、气相粒子、其它蒸发源,诸如真空或等离子体电弧。影响薄膜各生长阶段的主要参数有基底温度;沉积速率;沉积粒子的入射角:荷能粒子的轰击。可利用荷能离子的轰击对基底表面改性或改变薄膜的成核及生长。一般情况下。
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关键词
薄摸
沉积
粒子轰击效应
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职称材料
题名
薄膜沉积过程中的粒子轰击效应
1
作者
罗崇泰
d.m.mattox
出处
《真空与低温》
1990年第3期40-45,共6页
文摘
一、前言在真空和低压环境中,将可凝性原子(吸附原子)传输到一表面来制备薄膜。产生吸附原子的方法有热蒸发、物理溅射、气相粒子、其它蒸发源,诸如真空或等离子体电弧。影响薄膜各生长阶段的主要参数有基底温度;沉积速率;沉积粒子的入射角:荷能粒子的轰击。可利用荷能离子的轰击对基底表面改性或改变薄膜的成核及生长。一般情况下。
关键词
薄摸
沉积
粒子轰击效应
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
薄膜沉积过程中的粒子轰击效应
罗崇泰
d.m.mattox
《真空与低温》
1990
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