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非制冷势垒型InAsSb基高速中波红外探测器
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作者 贾春阳 邓功荣 +3 位作者 赵鹏 朱之贞 赵俊 张逸韵 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期166-173,共8页
高速响应的中波红外探测器在自由空间光通信和频率梳光谱学等新兴领域的需求逐渐增加。中长波XBnn势垒型红外光探测器对暗电流等散粒噪声具有显著抑制作用。本文在GaSb衬底上采用分子束外延技术生长了nBn和pBn两种结构的InAsSb/AlAsSb/A... 高速响应的中波红外探测器在自由空间光通信和频率梳光谱学等新兴领域的需求逐渐增加。中长波XBnn势垒型红外光探测器对暗电流等散粒噪声具有显著抑制作用。本文在GaSb衬底上采用分子束外延技术生长了nBn和pBn两种结构的InAsSb/AlAsSb/AlSb中波红外光探测器材料,并通过微纳加工工艺制备了可用于射频响应特性测试的GSG结构探测器。XRD和AFM的测试结果表明,两种结构的外延片都具有较好的晶体质量。器件暗电流测试结果表明,相较于nBn器件,在室温和反向偏压400 mV的工作条件下,直径90μm的pBn器件表现出更低的暗电流密度0.145 A/cm^(2),说明该器件在室温非制冷环境下表现出较低的噪声水平。不同台面直径的探测器的暗电流测试表明,pBn器件的表面电阻率低于对照的nBn器件的表面电阻率。另外,根据探测器的电容测试结果,可零偏压工作的pBn探测器具有完全耗尽的势垒层和部分耗尽的吸收区,nBn的吸收区也存在部分耗尽。探测器的射频响应特性表明,直径90μm的pBn器件的响应速度在室温和3 V反向偏压下可达2.62 GHz,对照的nBn器件的响应速度仅为2.02 GHz,响应速度提升了29.7%,初步实现了在中红外波段下可快速探测的室温非制冷势垒型光电探测器。 展开更多
关键词 InAsSb基 非制冷 高速 中波红外 势垒型探测器
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Investigation on p-type doping of PBn unipolar barrier InAsSb photodetectors
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作者 ZHANG Jian CHANG Chao +11 位作者 LI Hong-Fu SHI Yu-Na YIN Han-Xiang LI Yan-Hui YUE Biao WANG Hai-Peng YAN Chang-Shan DAI Xin-Ran deng gong-rong KONG Jin-Cheng ZHAO Peng ZHAO Jun 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期472-478,共7页
The lattice-matched XBn structures of InAsSb,grown on GaSb substrates,exhibit high crystal quali⁃ty,and can achieve extremely low dark currents at high operating temperatures(HOT).Its superior performance is attribute... The lattice-matched XBn structures of InAsSb,grown on GaSb substrates,exhibit high crystal quali⁃ty,and can achieve extremely low dark currents at high operating temperatures(HOT).Its superior performance is attributed to the unipolar barrier,which blocks the majority carriers while allowing unhindered hole transport.To further explore the energy band and carrier transport mechanisms of the XBn unipolar barrier structure,this pa⁃per systematically investigates the influence of doping on the dark current,photocurrent,and tunneling character⁃istics of InAsSb photodetectors in the PBn structure.Three high-quality InAsSb samples with unintentionally doped absorption layers(AL)were prepared,with varying p-type doping concentrations in the GaSb contact layer(CL)and the AlAsSb barrier layer(BL).As the p-type doping concentration in the CL increased,the device’s turn-on bias voltage also increased,and p-type doping in the BL led to tunneling occurring at lower bias voltages.For the sample with UID BL,which exhibited an extremely low dark current of 5×10^(-6) A/cm^(2).The photocurrent characteristics were well-fitted using the back-to-back diode model,revealing the presence of two opposing space charge regions on either side of the BL. 展开更多
关键词 INASSB PBN p-type doping dark current
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InAsSb势垒阻挡型红外探测器暗电流特性研究 被引量:1
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作者 陈冬琼 王海澎 +10 位作者 秦强 邓功荣 尚发兰 谭英 孔金丞 胡赞东 太云见 袁俊 赵鹏 赵俊 杨文运 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第5期810-817,共8页
计算了不同温度下由辐射复合和俄歇复合决定的InAsSb材料的载流子寿命,结果表明,低温下n型InAsSb材料的载流子寿命受限于辐射复合过程,而高温下InAsSb材料的载流子寿命取决于Auger 1复合过程。讨论了势垒阻挡型器件的暗电流解析模型及... 计算了不同温度下由辐射复合和俄歇复合决定的InAsSb材料的载流子寿命,结果表明,低温下n型InAsSb材料的载流子寿命受限于辐射复合过程,而高温下InAsSb材料的载流子寿命取决于Auger 1复合过程。讨论了势垒阻挡型器件的暗电流解析模型及暗电流抑制机理,通过在nBn吸收层的另一侧增加重掺杂的n型电极层形成nBnn+结构对吸收区内的载流子进行耗尽,吸收区少数载流子浓度降低约两个数量级,从而进一步降低器件暗电流。成功制备了InAsSb-基nBnn+器件,150 K下器件暗电流低至3×10^(-6) A/cm^(2),采用势垒结构器件的暗电流解析模型对150 K下器件的暗电流进行拟合分析,结果表明由于势垒层为p型掺杂,在吸收层形成耗尽区,导致器件中的产生复合电流并没有完全被抑制,工作温度低于180 K,器件暗电流受限于产生复合电流,工作温度高于180 K,器件暗电流受限于扩散电流。 展开更多
关键词 铟砷锑 高工作温度 势垒 中红外
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