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Magnetic Exchange Bias and Its Ion Beam Induced Enhancement in a Nanoscale Si/Co/Si System
1
作者
Sumalay Roy
Miklos Menyhard
+2 位作者
Subham Majumdar
dmitri novikov
Bhupendra Nath Dev
《材料科学与工程(中英文版)》
2011年第2期200-211,共12页
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职称材料
题名
Magnetic Exchange Bias and Its Ion Beam Induced Enhancement in a Nanoscale Si/Co/Si System
1
作者
Sumalay Roy
Miklos Menyhard
Subham Majumdar
dmitri novikov
Bhupendra Nath Dev
机构
Department of Materials Science
Research Institute for Technical Physics and Materials Science
Department of Solid State Physics
Hamburg Synchrotron Radiation Laboratory
出处
《材料科学与工程(中英文版)》
2011年第2期200-211,共12页
Keywords
Thin film, magnetic exchange bias, X-ray reflectivity, ion irradiation induced modifications, Co-Si alloy.
分类号
TB [一般工业技术]
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职称材料
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作者
出处
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1
Magnetic Exchange Bias and Its Ion Beam Induced Enhancement in a Nanoscale Si/Co/Si System
Sumalay Roy
Miklos Menyhard
Subham Majumdar
dmitri novikov
Bhupendra Nath Dev
《材料科学与工程(中英文版)》
2011
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