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Single step fabrication of N-doped graphene/Si3N4/SiC heterostructures 被引量:1
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作者 emilio velez-fort Emiliano Pallecchi +5 位作者 Mathieu G. Silly Mounib Bahri Gilles Patriarche Abhay Shukla Fausto Sirotti Abdelkarim Ouerghi 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第6期835-843,共9页
关键词 掺杂石墨 氮化硅 X射线光电子能谱 异质结 碳化硅 加工 单步 低能电子衍射
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Self-organized metal-semiconductor epitaxial graphene layer on off-axis 4H-SiC(0001)
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作者 Debora Pierucci Haikel Sediri +8 位作者 Mahdi Hajlaoui emilio velez-fort Yannick J. Dappe Mathieu G. Silly Rachid Belkhou Abhay Shukla Fausto Sirotti Noelle Gogneau Abdelkarim Ouerghi 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第3期1026-1037,共12页
graphene 的显著性质在未来电子学为新观点显示出诺言,尤其是为纳米规模设备。这里,我们在离开轴 4H-SiC (0001 ) 上取向附生地种 graphene 底层并且表明单层 graphene 的周期的安排的形成在上平面(0001 )\ 上的平台和伯纳尔 bilayer ... graphene 的显著性质在未来电子学为新观点显示出诺言,尤其是为纳米规模设备。这里,我们在离开轴 4H-SiC (0001 ) 上取向附生地种 graphene 底层并且表明单层 graphene 的周期的安排的形成在上平面(0001 )\ 上的平台和伯纳尔 bilayer graphene ((11 \bar 20 )\) nanofacets 原文如此。我们用拉曼光谱学,原子力量 microscopy/electrostatic 力量显微镜学(AFM/EFM ) 和 X 光检查和解决的角度调查这些侧面的超点阵光致核裂变光谱学(XPS/ARPES ) 。EFM 和 ARPES 的关联在 \ 上在叠 AB 的 bilayer graphene 揭示永久电子乐队差距的外观((11 \bar 20 )\) 原文如此 150 兆电子伏的 nanofacets。这个特征被密度证实功能的理论(DFT ) 计算。在底层和 graphene bilayer 之间的费用转移导致在顶和打开精力差距的底部 graphene 层之间的不对称的费用分布。这个表面组织能因此被定义为自我组织的金属半导体 graphene。 展开更多
关键词 4H-SIC 金属半导体 自组织 石墨 角分辨光电子能谱 离轴 体外 静电力显微镜
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