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两种首次用于动态离子束混合镀膜的新装置
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作者 M.JAULIN glaplanche +1 位作者 J.DELAFOND 刘炜生 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 1990年第6期30-33,共4页
一、引言近几年来研究成的许多薄膜沉积技术,其新颖之处在于形成薄膜所需的轰击能量上,而轰击能量的大小会影响薄膜的金相结构和其它特性。硬质材料的镀层,尤其是耐熔的碳化物,由于它们的高硬度和抗磨、抗蚀的特性。
关键词 镀膜 动态离子束 薄膜沉积 装置
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