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两种首次用于动态离子束混合镀膜的新装置
1
作者
M.JAULIN
glaplanche
+1 位作者
J.DELAFOND
刘炜生
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
1990年第6期30-33,共4页
一、引言近几年来研究成的许多薄膜沉积技术,其新颖之处在于形成薄膜所需的轰击能量上,而轰击能量的大小会影响薄膜的金相结构和其它特性。硬质材料的镀层,尤其是耐熔的碳化物,由于它们的高硬度和抗磨、抗蚀的特性。
关键词
镀膜
动态离子束
薄膜沉积
装置
下载PDF
职称材料
题名
两种首次用于动态离子束混合镀膜的新装置
1
作者
M.JAULIN
glaplanche
J.DELAFOND
刘炜生
出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
1990年第6期30-33,共4页
文摘
一、引言近几年来研究成的许多薄膜沉积技术,其新颖之处在于形成薄膜所需的轰击能量上,而轰击能量的大小会影响薄膜的金相结构和其它特性。硬质材料的镀层,尤其是耐熔的碳化物,由于它们的高硬度和抗磨、抗蚀的特性。
关键词
镀膜
动态离子束
薄膜沉积
装置
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
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作者
出处
发文年
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1
两种首次用于动态离子束混合镀膜的新装置
M.JAULIN
glaplanche
J.DELAFOND
刘炜生
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
1990
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