MMST工程的光刻技术

MMST工程的光刻技术关键取决于i线（365nm）和深紫外（248nm）激光光学重复步进曝光机。大多数的图形层制作均使用传统的用湿法显影的抗蚀剂，而对关键的栅和金属层则采用“DESIRE”工艺，使用表面成象，干法显影的抗蚀剂。倘若能对光刻工艺的各个关键步骤实行实时监控，则可望实现光刻完全自动化。