AES(RFA)谱形分析及其在Mo-Si多层膜界面研究中的应用

应用减速场分析器（RFA）俄歇能谱仪得到直接谱N（E）－E，经计算机程序处理保存谱形方面的信息，并应用于软X射线光学Mo-Si多层膜介面的研究中。并说明经H＋离子轰击的界面谱形。

氢离子束对Mo-Si多层膜界面改性的研究

为了研究氢离子束轰击Mo-Si多层膜界面的情况，采用氢离子束（能量150eV）轰击Si表面，即Si与Mo之界面。再用Kr离子束溅射刻蚀，并用俄歇电子能谱（AES）分析。实验结果说明氢离子束对Si表面轰击能有效防止界面混杂效应（intermixingeffect）。进而说明这是制备软X射线多层膜反射镜过程中解决界面混杂问题的有效途径。