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从教师职业精神的消解与重构看师生课堂冲突的化解 被引量:1
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作者 胡世港 张洪春 《职业技术教育》 北大核心 2020年第2期62-66,共5页
教师职业精神被消解是师生课堂冲突的重要原因。教师职业精神的消解缘于社会现实环境、学校科层制管理、办学功利主义倾向和学生课堂问题行为等因素。化解师生课堂冲突需重构教师职业精神:强化社会舆论正确导向,提高教师社会地位;推进... 教师职业精神被消解是师生课堂冲突的重要原因。教师职业精神的消解缘于社会现实环境、学校科层制管理、办学功利主义倾向和学生课堂问题行为等因素。化解师生课堂冲突需重构教师职业精神:强化社会舆论正确导向,提高教师社会地位;推进现代学校治理方式,保障教师合法权力;积极建立有效管理制度,重树教师信心与权威。 展开更多
关键词 教师 职业精神 师生冲突 消解 重构
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基于流固热耦合的中心回转流道液冷板散热性能研究 被引量:2
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作者 余剑武 胡仕港 +2 位作者 范光辉 包有玉 陈亚玲 《湖南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第12期1-9,共9页
为研究不同流道结构设计对液冷板散热性能、均温性能以及能耗的影响,采用计算流体动力学流固热耦合数值计算方法分析了液冷板结构参数对电动汽车某液冷单元散热性能的影响.结果表明:中心流道宽度由6 mm增加至31 mm,导热垫表面最大温差降... 为研究不同流道结构设计对液冷板散热性能、均温性能以及能耗的影响,采用计算流体动力学流固热耦合数值计算方法分析了液冷板结构参数对电动汽车某液冷单元散热性能的影响.结果表明:中心流道宽度由6 mm增加至31 mm,导热垫表面最大温差降低19.4%,流阻增加14.6%,当采用流道宽度从中间到两侧递减的设计方式,可以改善其散热均温性能且能耗在可接受范围内.流道深度由5 mm减小至2 mm,表面最大温差降低36.7%,流阻增大了3.3倍,减小流道深度能显著改善散热均温性能,同时会显著增加能耗.添加强化传热结构和在某些工况下改变进出水口位置能改善散热均温性能,同时也会增大流阻和能耗.研究结果可为液冷板的结构设计提供参考,从而改善电池模组的散热性能. 展开更多
关键词 电池管理系统 液冷板 散热 均温性能 流道
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一种基于Logistic混沌方程和ECC的混合加密算法 被引量:1
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作者 王尚勇 吴笑峰 +1 位作者 胡仕刚 李劲 《现代信息科技》 2018年第2期103-104,107,共3页
互联网时代的到来给现代科学技术的发展带来了日新月异的变化,尤其是当下比较火热的大数据与区块链技术,更是突出了信息安全以及数据加密的重要作用。本文在对比Logistic混沌映射与ECC的特点的基础上,将两者的优点糅合,去粗取精,提出了... 互联网时代的到来给现代科学技术的发展带来了日新月异的变化,尤其是当下比较火热的大数据与区块链技术,更是突出了信息安全以及数据加密的重要作用。本文在对比Logistic混沌映射与ECC的特点的基础上,将两者的优点糅合,去粗取精,提出了基于Logistic混沌方程和ECC的混合加密算法。该算法以Logistic混沌映射的初始参数作为ECC的密钥,来加强加密效率和安全性能。实验结果表明,该算法安全性能极高。 展开更多
关键词 LOGISTIC混沌映射 ECC 混合加密算法 密钥
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光无线通信中基于哈特莱变换的翻转OFDM技术 被引量:6
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作者 李炉焦 陈君 +2 位作者 唐志军 胡仕刚 陈磊 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第19期74-80,共7页
提出了一种新的基于快速哈特莱变换(FHT)的翻转光正交频分复用(OFDM)方案(Flip-FHT)。快速哈特莱变换为实三角变换,当用其处理傅里叶变换时,输入信号不需要厄米对称性。同时,与传统的基于快速傅里叶变换(FFT)的非对称限幅光OFDM(ACO-OF... 提出了一种新的基于快速哈特莱变换(FHT)的翻转光正交频分复用(OFDM)方案(Flip-FHT)。快速哈特莱变换为实三角变换,当用其处理傅里叶变换时,输入信号不需要厄米对称性。同时,与传统的基于快速傅里叶变换(FFT)的非对称限幅光OFDM(ACO-OFDM)中只有奇数子载波携带信息符号不同,该方案由于翻转了实双极信号的负数部分,使得偶数子载波也可以携带信息符号,故该方案适用于强度调制/直接检测(IM/DD)光无线通信(OWC)系统。与ACO-OFDM相比,Flip-FHT的频谱效率提高了1倍,计算复杂度在接收端降低了50%。仿真结果表明,与采用4QAM和16QAM(正交幅度调制)的ACO-OFDM相比,采用BPSK(二进制相移键控)和4PAM(脉冲幅度调制)的Flip-FHT可以在系统结构更简单、星座尺寸更小的情况下获得相同的性能。 展开更多
关键词 光通信 翻转FHT 哈特莱变换 厄米对称性 非对称限幅光OFDM 强度调制/直接检测
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Fabrication of 150-nm Al_(0.48)In_(0.52)As/Ga_(0.47)In_(0.53)As mHEMTs on GaAs substrates 被引量:3
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作者 WU XiaoFeng LIU HongXia +4 位作者 LI HaiOu LI Qi hu shigang XI ZaiFang ZHAO Jin 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2012年第12期2389-2391,共3页
High performance 150-nm gate-length metamorphic Al0.48In0.52As/Ga0.47In0.53 As high electron mobility transistors(mHEMTs) with very good device performance have been successfully fabricated.A T-shaped gate is fabricat... High performance 150-nm gate-length metamorphic Al0.48In0.52As/Ga0.47In0.53 As high electron mobility transistors(mHEMTs) with very good device performance have been successfully fabricated.A T-shaped gate is fabricated by using a combined technique of optical and e-beam photolithography,which is beneficial to decreasing parasitic capacitance and parasitic resistance of the gate.The ohmic contact resistance R c is as low as 0.03 mm when using a novel ohmic contact metal system(Ni/Ge/Ti/Au).The devices exhibit excellent DC and RF performance.A peak extrinsic transconductance of 775 mS/mm and a maximum drain current density of 720 mA/mm are achieved.The unity current gain cut-off frequency(fT) and the maximum oscillation frequency(f max) are 188.4 and 250 GHz,respectively. 展开更多
关键词 AlInAs/GaInAs mHEMTs GaAs substrate T-GATE
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