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提高平板显示屏镀膜应用中的靶材利用率
1
作者
Jutta
Trube
+2 位作者
HeikoStrunk
ChristophDaube
helmutfrankenberger
《液晶与显示》
CAS
CSCD
1998年第2期128-131,共4页
平板显示屏的经济生产,不仅要求可靠的工艺技术,而且绝对要求较高的靶利用率。本文介绍了在保持ITO工艺的标准阴极法所获得的膜特性基础上,用移动磁场的方法可以获得>50%的靶利用率。
关键词
靶材利用率
大尺寸基片
平板显示屏
薄膜溅射
镀膜
移动磁场
ITO靶
全文增补中
题名
提高平板显示屏镀膜应用中的靶材利用率
1
作者
Jutta
Trube
HeikoStrunk
ChristophDaube
helmutfrankenberger
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
1998年第2期128-131,共4页
文摘
平板显示屏的经济生产,不仅要求可靠的工艺技术,而且绝对要求较高的靶利用率。本文介绍了在保持ITO工艺的标准阴极法所获得的膜特性基础上,用移动磁场的方法可以获得>50%的靶利用率。
关键词
靶材利用率
大尺寸基片
平板显示屏
薄膜溅射
镀膜
移动磁场
ITO靶
Keywords
sputter target utilization large scale substrate
分类号
TN873.91 [电子电信—信息与通信工程]
TB43 [一般工业技术]
全文增补中
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
提高平板显示屏镀膜应用中的靶材利用率
Jutta
Trube
HeikoStrunk
ChristophDaube
helmutfrankenberger
《液晶与显示》
CAS
CSCD
1998
0
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