期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode
1
作者
Soukup Rodney
j
ianno natale j
+2 位作者
Huguenin-Love
j
ames L
Lauer Noel T
Zdenek Hubicka
《材料科学与工程（中英文版）》
2009年第8期1-7,共7页
关键词
沉积速率
SIC薄膜
脉冲溅射
阴极溅射
空心阴极
衬底温度
溅射技术
射频溅射
下载PDF
职称材料
题名
Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode
1
作者
Soukup Rodney
j
ianno natale j
Huguenin-Love
j
ames L
Lauer Noel T
Zdenek Hubicka
机构
Department of Electrical Engineering
Institute of Physics
出处
《材料科学与工程（中英文版）》
2009年第8期1-7,共7页
关键词
沉积速率
SIC薄膜
脉冲溅射
阴极溅射
空心阴极
衬底温度
溅射技术
射频溅射
Keywords
hollow cathode
pulsed sputtering
4H SiC
分类号
TN304.24 [电子电信—物理电子学]
P736.21 [天文地球—海洋地质]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode
Soukup Rodney
j
ianno natale j
Huguenin-Love
j
ames L
Lauer Noel T
Zdenek Hubicka
《材料科学与工程（中英文版）》
2009
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
