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Fabrication of High Aspect Ratio Sub-100 nm Patterns in Fused Silica
被引量：
1
1
作者
j. zajadacz
,
r. fechner k. zimmer
《材料科学与工程（中英文A版）》
2012年第5期458-462,共5页
关键词
熔融石英
高宽比
制造
纳米结构
透明材料
气体混合物
金属膜
生命科学
下载PDF
职称材料
题名
Fabrication of High Aspect Ratio Sub-100 nm Patterns in Fused Silica
被引量：
1
1
作者
j. zajadacz
,
r. fechner k. zimmer
机构
Leibniz-lnstitut far Oberfldchenmodifizierung e. V
出处
《材料科学与工程（中英文A版）》
2012年第5期458-462,共5页
关键词
熔融石英
高宽比
制造
纳米结构
透明材料
气体混合物
金属膜
生命科学
Keywords
Nano structures, reactive ion beam etching, metal mask, electron beam lithography.
分类号
TN405.98 [电子电信—微电子学与固体电子学]
TQ174.653 [化学工程—陶瓷工业]
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职称材料
题名
作者
出处
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1
Fabrication of High Aspect Ratio Sub-100 nm Patterns in Fused Silica
j. zajadacz
,
r. fechner k. zimmer
《材料科学与工程（中英文A版）》
2012
1
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职称材料
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参考文献
引证文献
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