辉铜矿和铜蓝黄药浮选的电化学机理

利用小振幅循环伏安法(SACV)技术研究了与饱和甘汞电极比较,在-1～+1V的电势范围内,辉铜矿和铜蓝浸没在不含黄药和含黄药、pH为9.2的硼酸盐溶液中的表面氧化机理。证明了黄原酸铜化合物的形成,是硫化矿表面与黄原酸根离子直接反应的结果。此外,在浮选试验的基础上,研究了电化学势对矿物可浮性的影响。结果表明,引起铜蓝疏水的物质有两种:黄原酸铜[CuEtX和Cu(EtX)_2]及双黄药[(CuX)_2],而引起辉铜矿疏水的物质只有CuEtX。

黄药浮选自然铜和黄铜矿的电化学控制

用小波幅周期伏安测量法,分析浸入pH值为9.2的无黄药和含黄药硼酸盐溶液中的铜的氧化表面研究电化学位对铜和黄铜矿颗粒可浮性的影响。研究表明,黄原酸铜类物质的生成,不仅与铜和黄药离子之间的直接反应有关,而且也与黄药离子和与黄铜矿之间的直接反应有关。由资料得知,导致铜和黄铜矿颗粒疏水的物质是黄原酸铜类物质和双黄药。在微量浮选-电化学槽和丹佛型电化学槽中进行的浮选试验证明,当铜和黄铜矿表面上存在这两种物质时,可获得最大的可浮性。为了分析产生疏水性物质的稳定性,进行了电位降的测量。