基于SEIR模型对武汉市新型冠状病毒肺炎疫情发展趋势预测

目的预测武汉市新型冠状病毒肺炎(新冠肺炎)疫情的发展趋势及不同管控开始时间、管控强度对新冠肺炎疫情的影响。方法收集2020年1月20日~2月18日武汉市新冠肺炎疫情的相关数据,利用Matlab构建SEIR模型,模拟新冠肺炎疫情发展趋势,利用Pearson相关性检验分析模拟的武汉市新冠肺炎疫情与实际疫情的相关性,加入不同管控时效(即自1月23日武汉封城后第10天,第15天和第20天开始管控)和不同管控强度(即易感者分别接触10、7、3例)等参数分析防控策略对武汉市新冠肺炎疫情发展的影响。结果SEIR模型模拟的武汉市新冠肺炎疫情拐点出现在武汉封城后第35天,即2月底,同时新冠肺炎疫情在4月底基本得到控制。SEIR模型模拟的武汉市新冠肺炎疫情发展情况与实际新冠肺炎疫情的相关系数为0.96(P<0.05)。与1月23日武汉封城后第15、20天开始管控相比,第10天开始管控的新冠肺炎疫情感染者峰值分别减少160.95%和98.67%。易感者接触3例比易感者分别接触10、7例的新冠肺炎疫情感染者峰值分别下降49.21%和34.84%。结论现有管控措施影响下,基于SEIR模型预测的武汉市新冠肺炎疫情拐点出现在武汉封城后第35天,与实际已经发生的新冠肺炎疫情符合,新冠肺炎疫情基本在4月底可得到控制。越早开始管控并且管控强度越大,对新冠肺炎疫情的干预越有效,宜尽早切断传播途径。

同型半胱氨酸、癌胚抗原与胃癌的关系

目的:分析同型半胱氨酸、癌胚抗原与胃癌的关系。方法:选取2019年1月至5月在江苏省江阴市人民医院进行治疗的33例胃炎患者、30例胃溃疡患者、82例胃息肉患者、180例胃癌患者及同期在该院进行检查的50例健康人作为研究对象。将其中的健康人设为对照组(50例),将其中的胃炎患者设为胃炎组(33例),将其中的胃溃疡患者设为胃溃疡组(30例),将其中的胃息肉患者设为胃息肉组(82例),将其中的胃癌患者设为胃癌组(180例)。对五组人员进行血清同型半胱氨酸检测、血清胚抗原检测、血清叶酸检测及血清维生素B12检测。然后,比较五组受检者血清同型半胱氨酸的水平、血清癌胚抗原的水平、血清叶酸的水平及血清维生素B12的水平。结果:胃癌组患者、胃息肉组患者、胃溃疡组患者及胃炎组患者血清同型半胱氨酸的水平、血清癌胚抗原的水平均高于对照组健康人,P<0.05。胃癌组患者血清同型半胱氨酸的水平、血清癌胚抗原的水平均高于胃息肉组患者、胃溃疡组患者及胃炎组患者,P<0.05。胃癌组患者血清叶酸的水平、血清维生素B12的水平均低于对照组健康人,P<0.05。结论:与健康人、胃炎患者、胃溃疡患者及胃息肉患者相比,胃癌患者血清同型半胱氨酸的水平、血清癌胚抗原的水平均较高。与健康人相比,胃癌患者血清叶酸的水平、血清维生素B12的水平均较低。胃癌的发生与患者存在血清同型半胱氨酸、癌胚抗原水平异常密切相关。

Simulation and analysis of polycrystalline silicon photovoltaic cells surface color differences based on transfer matrix method

Following the previous work,in this paper,the antireflective films thicknesses,refractive indexes and reflectance spectra of different color categories of the polycrystalline silicon cells are tested and compared.It is found that the color difference of polycrystalline silicon cells is mainly caused by the antireflective film.Then the matrix transfer method is used to simulate the reflection spectra according to the actual tested parameters of the samples,and the effectiveness of the simulation is verified.Finally,according to the distribution of the spectral solar irradiance,the total solar absorption of the polycrystalline silicon cells with different antireflective film thicknesses is simulated.The optimal value of the antireflective film thickness of the polycrystalline silicon cell is calculated.This study has important guiding significance for photovoltaic(PV)enterprises to realize the optimal production of plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD)process in production.