甘氨酸在SiO_2表面的吸附及热缩合反应

考察了甘氨酸水溶液平衡浓度和pH值对其在SiO2 表面吸附行为的影响,采用DTG ,XRD和FT IR等手段对甘氨酸在SiO2 表面的吸附量及晶相结构等进行了表征.结果表明,甘氨酸在SiO2 上的吸附不符合Langmuir吸附模型,当甘氨酸水溶液平衡浓度小于0 0 73mol/L时,主要为特定位置吸附,此时SiO2 对甘氨酸的吸附源于其表面≡Si-O-基团与甘氨酸离子的-NH+3 端的相互作用;当平衡浓度大于0 0 73mol/L时,呈多层吸附,形成α和β两种晶型的甘氨酸.用TPD MS对甘氨酸的热缩合行为进行了考察,结合FT IR结果表明,产物为环状二聚体哌嗪二酮(DKP) ,没有检测到线式二聚体以及表面硅酯类物种形成.SiO2 对表面吸附的甘氨酸分子产生了诱导活化,使其热缩合温度与体相α甘氨酸相比降低了5 0℃左右.