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工业界即将迎来光刻技术转变
1
作者
ken rygler
《集成电路应用》
2009年第11期20-20,共1页
世导体产业历史上最大的一次转变已经开始了。传统的光学光刻一直都是半导体产业和摩尔定律的核心,但这项技术的统治即将终结。对替代技术的权衡正如火如荼地进行着——常常也是无声无息地——其结果也正逐渐显现,看起来似乎不只是单...
世导体产业历史上最大的一次转变已经开始了。传统的光学光刻一直都是半导体产业和摩尔定律的核心,但这项技术的统治即将终结。对替代技术的权衡正如火如荼地进行着——常常也是无声无息地——其结果也正逐渐显现,看起来似乎不只是单一的替代方案。像目前这样一种光刻技术适用于所有逻辑和存储器制造商的情况也会走到尽头,给未来工业界留下了更多问题而不是答案。
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关键词
光刻技术
工业界
半导体产业
摩尔定律
光学光刻
制造商
存储器
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职称材料
题名
工业界即将迎来光刻技术转变
1
作者
ken rygler
机构
CMO
出处
《集成电路应用》
2009年第11期20-20,共1页
文摘
世导体产业历史上最大的一次转变已经开始了。传统的光学光刻一直都是半导体产业和摩尔定律的核心,但这项技术的统治即将终结。对替代技术的权衡正如火如荼地进行着——常常也是无声无息地——其结果也正逐渐显现,看起来似乎不只是单一的替代方案。像目前这样一种光刻技术适用于所有逻辑和存储器制造商的情况也会走到尽头,给未来工业界留下了更多问题而不是答案。
关键词
光刻技术
工业界
半导体产业
摩尔定律
光学光刻
制造商
存储器
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
F426.63 [经济管理—产业经济]
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作者
出处
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1
工业界即将迎来光刻技术转变
ken rygler
《集成电路应用》
2009
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