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湿法化学刻蚀技术处理抛光熔石英元件 被引量:4
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作者 叶卉 李亚国 +1 位作者 姜晨 陈起 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第2期382-389,共8页
为了提高熔石英元件的抗激光损伤能力,采用基于氢氟酸刻蚀的湿法化学技术去除元件内的激光损伤诱因。利用不同的氢氟酸溶液处理经氧化铈抛光的熔石英元件,并对元件的刻蚀速率、表面洁净度、粗糙度、透过率和激光损伤性能进行评价。研究... 为了提高熔石英元件的抗激光损伤能力,采用基于氢氟酸刻蚀的湿法化学技术去除元件内的激光损伤诱因。利用不同的氢氟酸溶液处理经氧化铈抛光的熔石英元件,并对元件的刻蚀速率、表面洁净度、粗糙度、透过率和激光损伤性能进行评价。研究结果表明,与传统的静态刻蚀相比,在质量分数为6%的氢氟酸刻蚀溶液中引入能量密度约为0.6 W/cm^2的兆声能量对元件的溶解速率和激光损伤性能没有明显的提升作用;化学刻蚀产生的沉积物对元件表面粗糙度和透过率均有不利影响,且沉积物比例与所用的刻蚀液成分和浓度密切相关;经质量分数6%或12%的纯氢氟酸溶液刻蚀(5±1)μm深度后,熔石英元件的激光损伤阈值相比于未刻蚀元件提升了约1.9倍;熔石英元件的激光损伤性能与表面粗糙度和透过率之间不是简单的线性关系,但激光损伤阈值较理想的元件(>20 J/cm^2@3ns)往往具有较光滑的表面,即表面粗糙度<2 nm,由此可以确定有利于熔石英元件激光损伤性能的刻蚀条件,并获得元件表面粗糙度的控制指标。 展开更多
关键词 激光损伤性能 熔石英 氢氟酸湿法刻蚀 刻蚀沉积物 表面粗糙度
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熔石英表面激光平滑中扫描速度对粗糙度的影响规律
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作者 刘朋朋 刘卫国 +1 位作者 李亚国 周顺 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第8期316-322,共7页
目的研究激光平滑光学元件的工艺,探索使用CW(连续)CO2激光器对熔石英光学元件表面进行平滑处理时,当激光束功率、束斑尺寸一定的情况下,不同的扫描速度对平滑后熔石英元件表面粗糙度的影响规律。方法用仿真结合实验的方式进行了研究。... 目的研究激光平滑光学元件的工艺,探索使用CW(连续)CO2激光器对熔石英光学元件表面进行平滑处理时,当激光束功率、束斑尺寸一定的情况下,不同的扫描速度对平滑后熔石英元件表面粗糙度的影响规律。方法用仿真结合实验的方式进行了研究。使用有限元仿真模型对激光功率为25W,作用斑点为短轴2mm、长轴3mm的椭圆斑的激光加工模型进行了仿真,得到了不同扫描速度下激光束作用于熔石英表面的温度场及对应的稳定温度。通过定点照射实验验证了温度仿真结果的准确性,并进行了扫描速度为0.04、0.1、0.2、0.35、0.5mm/s的单因素实验,使用原子力显微镜检测平滑实验前后的熔石英表面粗糙度,得到了粗糙度与激光扫描速度之间的关系。结果激光功率为25W时,5种扫描速度对应的稳定温度都分布在熔石英材料的熔点以上。5种扫描速度下平滑后的熔石英表面粗糙度都明显降低,在扫描速度为0.1mm/s的情况下,取得了将熔石英表面粗糙度由初始的62.55nm降低至6.17nm的平滑效果。结论激光平滑过程中,当激光功率、激光斑尺寸一定时,存在一个最佳的扫描速度,可以使加工表面的粗糙度降低至光学表面的要求。 展开更多
关键词 激光平滑 熔石英 有限元分析 扫描速度 温度场 表面粗糙度
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基于实证研究的大学英语四级考试三十年变革与发展 被引量:4
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作者 李亚果 《郑州航空工业管理学院学报(社会科学版)》 2018年第5期136-144,共9页
文章基于CET4的实施情况和考试大纲的变化,总结出CET4的五个发展阶段,选取每个阶段有代表性的初始年份1987、1997、2007、2015、2017年的九套试题为研究对象,参照Bachman&Palmer[1]的任务特征框架,从历时对比的视角对试卷结构和具... 文章基于CET4的实施情况和考试大纲的变化,总结出CET4的五个发展阶段,选取每个阶段有代表性的初始年份1987、1997、2007、2015、2017年的九套试题为研究对象,参照Bachman&Palmer[1]的任务特征框架,从历时对比的视角对试卷结构和具体测试内容两个方面展开分析。研究结果表明:在三十年的发展中,CET4在考查技能、考试题型、材料难度、材料的体裁和题材、题目的表述、考试要求等方面更趋科学和合理。然而分析中也发现了一些不足,即部分试卷阅读材料体裁和题材过于集中、快速阅读篇章难度偏大、个别阅读篇章过难等。 展开更多
关键词 大学英语四级考试 试卷结构 测试内容
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Fe-Mn-Ce/GAC催化剂制备及其在生物制药废水深度处理中的应用 被引量:3
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作者 彭娟 杨永哲 +3 位作者 杨宏勃 李亚国 邹俊轶 吕露遥 《环境工程》 CAS CSCD 北大核心 2019年第12期113-119,共7页
通过在活性炭上负载铁、锰和铈离子的方法,制备Fe-Mn-Ce/GAC催化剂,并研究其在非均相臭氧催化氧化反应(heterogeneous catalytic ozonation process,HCOP)和尾气利用-非均相臭氧催化氧化反应(ozone reuse-HCOP,OR-HCOP)深度处理生物制... 通过在活性炭上负载铁、锰和铈离子的方法,制备Fe-Mn-Ce/GAC催化剂,并研究其在非均相臭氧催化氧化反应(heterogeneous catalytic ozonation process,HCOP)和尾气利用-非均相臭氧催化氧化反应(ozone reuse-HCOP,OR-HCOP)深度处理生物制药废水中的催化性能。结果表明:HCOP工艺中,在反应时间为120 min,初始pH为9,催化剂投加量为2 g/L,催化剂粒径为0.15~0.35 mm条件下,COD和NH+4-N平均去除率分别可达80.78%和94.35%[出水浓度分别为(57.03±0.57),(0.38±0.06)mg/L]。OR-HCOP工艺中,ρ(COD)和ρ(NH+4-N)进水分别为(294.46±2.11),(5.99±0.06)mg/L,尾气催化氧化后分别降至(103.63±3.20),(0.97±0.08)mg/L,臭氧催化氧化后进一步降至(39.42±4.71),(0.32±0.02)mg/L,平均去除率分别可达86.62%和94.59%,且可回收臭氧57.47%。在HCOP最佳工艺条件下,Fe-Mn-Ce/GAC至少可循环使用6次。 展开更多
关键词 Fe-Mn-Ce/GAC催化剂 非均相臭氧催化氧化 生物制药废水 尾气利用
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Granulocyte colony-stimulating factor regulates JNK pathway to alleviate damage after cerebral ischemia reperfusion 被引量:3
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作者 li ya-guo liu Xiao-li Zheng Chao-bo 《Chinese Medical Journal》 SCIE CAS CSCD 2013年第21期4088-4092,共5页
Background Granulocyte-macrophage colony-stimulating factor (GM-CSF) is a potent hematopoietic growth factor that both enhances the survival and drives the differentiation and proliferation of myeloid lineage cells.... Background Granulocyte-macrophage colony-stimulating factor (GM-CSF) is a potent hematopoietic growth factor that both enhances the survival and drives the differentiation and proliferation of myeloid lineage cells. Recent studies have suggested that GM-CSF has a neuroprotective effect against cerebral ischemia injury, but the molecular mechanisms have been unclear. This study aimed to investigate the influences of a short-acting (half-life 3.5 hours) G-CSF and a long-acting (half-life 40 hours) pegylated G-CSF on the JNK signaling pathway after cerebral ischemia reperfusion. 展开更多
关键词 cerebral ischemia reperfusion injury JNK C-JUN granulocyte colony-stimulatingJactor
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