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一种崭新的镀膜技术——等离子体束溅射 被引量:3
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作者 m.j.thwaites 方立武 王晓伟 《真空》 CAS 北大核心 2005年第1期43-45,共3页
详细描述一种等离子体高效溅射系统及应用工艺。此种崭新的溅射技术结合了蒸发镀的高效及溅射镀的高性能特点,特别在多元合金以及磁性薄膜的制备,具有其他手段无可比拟的优点。
关键词 高利用率等离子体溅射 共溅射 汇聚线圈
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