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一种崭新的镀膜技术——等离子体束溅射
被引量:
3
1
作者
m.j.thwaites
方立武
王晓伟
《真空》
CAS
北大核心
2005年第1期43-45,共3页
详细描述一种等离子体高效溅射系统及应用工艺。此种崭新的溅射技术结合了蒸发镀的高效及溅射镀的高性能特点,特别在多元合金以及磁性薄膜的制备,具有其他手段无可比拟的优点。
关键词
高利用率等离子体溅射
共溅射
汇聚线圈
下载PDF
职称材料
题名
一种崭新的镀膜技术——等离子体束溅射
被引量:
3
1
作者
m.j.thwaites
方立武
王晓伟
机构
.Plasma Quest L imited
北京利方达真空技术有限责任公司
出处
《真空》
CAS
北大核心
2005年第1期43-45,共3页
文摘
详细描述一种等离子体高效溅射系统及应用工艺。此种崭新的溅射技术结合了蒸发镀的高效及溅射镀的高性能特点,特别在多元合金以及磁性薄膜的制备,具有其他手段无可比拟的优点。
关键词
高利用率等离子体溅射
共溅射
汇聚线圈
Keywords
High Target Utilization Plasma Sputtering(HiTUS)
co-sputtering
convergence coil
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
一种崭新的镀膜技术——等离子体束溅射
m.j.thwaites
方立武
王晓伟
《真空》
CAS
北大核心
2005
3
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