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Optical Properties of GaAs/AlGaAs Nanowires Grown on Pre-etched Si Substrates
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作者 ZHANG Zhihong meng bingheng +2 位作者 WANG Shuangpeng KANG Yubin WEI Zhipeng 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第10期1639-1646,共8页
GaAs-based nanomaterials are essential for near-infrared nano-photoelectronic devices due to their exceptional optoelectronic properties.However,as the dimensions of GaAs materials decrease,the development of GaAs nan... GaAs-based nanomaterials are essential for near-infrared nano-photoelectronic devices due to their exceptional optoelectronic properties.However,as the dimensions of GaAs materials decrease,the development of GaAs nanowires(NWs)is hindered by type-Ⅱquantum well structures arising from the mixture of zinc blende(ZB)and wurtzite(WZ)phases and surface defects due to the large surface-to-volume ratio.Achieving GaAs-based NWs with high emission efficiency has become a key research focus.In this study,pre-etched silicon substrates were combined with GaAs/AlGaAs core-shell heterostructure to achieve GaAs-based NWs with good perpendicularity,excellent crystal structures,and high emission efficiency by leveraging the shadowing effect and surface passivation.The primary evidence for this includes the prominent free-exciton emission in the variable-temperature spectra and the low thermal activation energy indicated by the variable-power spectra.The findings of this study suggest that the growth method described herein can be employed to enhance the crystal structure and optical properties of otherⅢ-Ⅴlow-dimensional materials,potentially paving the way for future NW devices. 展开更多
关键词 GaAs nanowires GaAs/AlGaAs core-shell structure crystal phase optical property
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氢气退火对ITO纳米颗粒能带结构的影响
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作者 郭德双 王登魁 +4 位作者 王新伟 孟兵恒 方铉 房丹 魏志鹏 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第S01期26-28,42,共4页
采用共沉淀法合成了高质量的ITO纳米颗粒,研究了H 2退火对ITO结构及能带的影响。通过扫描电子显微镜对ITO颗粒的形貌进行分析,发现其颗粒尺寸均匀;采用傅里叶变换红外光谱分析退火前后ITO中化学键的类型,发现退火之后In-O键的振动峰减弱... 采用共沉淀法合成了高质量的ITO纳米颗粒,研究了H 2退火对ITO结构及能带的影响。通过扫描电子显微镜对ITO颗粒的形貌进行分析,发现其颗粒尺寸均匀;采用傅里叶变换红外光谱分析退火前后ITO中化学键的类型,发现退火之后In-O键的振动峰减弱,这是ITO颗粒表面氧溢出并形成In-Sn合金所致;同时X射线衍射曲线在退火前后并未发生变化,表明ITO纳米颗粒主体的晶体结构并没有发生改变;通过H 2气氛下退火后样品的吸收光谱可以看出,随着退火温度的升高,ITO的带隙逐渐增大,这是由表面的In-Sn合金所引起的。 展开更多
关键词 纳米材料 氧化铟锡(ITO) 共沉淀法 热退火 光学带隙
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CVD法制备的高结晶质量二维β-Ga_(2)O_(3)薄膜性质研究
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作者 李星晨 林逢源 +9 位作者 贾慧民 亢玉彬 石永吉 孟兵恒 房丹 唐吉龙 王登魁 李科学 楚学影 魏志鹏 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2022年第19期393-399,共7页
为了能够得到高质量的薄膜,降低实验成本,通过化学气相沉积(CVD)方法以GaTe粉作为Ga源在云母衬底上合成了β-Ga_(2)O_(3)薄膜。通过改变生长温度、载气和生长时间得到高结晶质量的β-Ga_(2)O_(3)薄膜,并通过X射线衍射(XRD)和拉曼光谱进... 为了能够得到高质量的薄膜,降低实验成本,通过化学气相沉积(CVD)方法以GaTe粉作为Ga源在云母衬底上合成了β-Ga_(2)O_(3)薄膜。通过改变生长温度、载气和生长时间得到高结晶质量的β-Ga_(2)O_(3)薄膜,并通过X射线衍射(XRD)和拉曼光谱进行证实。XRD结果显示,薄膜的最佳生长温度为750℃。对比不同载气下合成的β-Ga_(2)O_(3)薄膜可知,Ar气是生长薄膜材料的最佳环境。为了实现高结晶质量的β-Ga_(2)O_(3)薄膜,在Ar气环境下改变薄膜的生长时间,XRD结果发现,生长时间20 min的薄膜具有高结晶质量。最后,将其转移到300 nm厚氧化层的Si/SiO_(2)衬底上,并通过原子力显微镜测试,证实了16 nm厚的二维Ga_(2)O_(3)薄膜。 展开更多
关键词 薄膜 化学气相沉积 云母衬底 高结晶质量 二维β-Ga_(2)O_(3)薄膜
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