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Influence of UV illumination on track etching process
1
作者
LIUQi
ZHUZhiyong
+2 位作者
maekawayasunari
YoshidaMasaru
YAOSide
《辐射研究与辐射工艺学报》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第2期108-108,共1页
关键词
UV照明
离子跟踪
化学刻蚀
聚四氟乙烯
辐射化学
下载PDF
职称材料
题名
Influence of UV illumination on track etching process
1
作者
LIUQi
ZHUZhiyong
maekawayasunari
YoshidaMasaru
YAOSide
机构
ShanghaiInstituteofAppliedPhysics
TakasakiRadiationChemistryResearchEstablishment
出处
《辐射研究与辐射工艺学报》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第2期108-108,共1页
基金
中国科学院上海应用物理研究所<人才引进项目>(90120432)资助
关键词
UV照明
离子跟踪
化学刻蚀
聚四氟乙烯
辐射化学
Keywords
Ion track, UV illumination, Chemical etching
分类号
O644.2 [理学—物理化学]
TQ342.711 [化学工程—化纤工业]
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作者
出处
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1
Influence of UV illumination on track etching process
LIUQi
ZHUZhiyong
maekawayasunari
YoshidaMasaru
YAOSide
《辐射研究与辐射工艺学报》
CAS
CSCD
北大核心
2005
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职称材料
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