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用于高功率密度功率因素校正的新一代600V砷化镓肖特基二极管
1
作者
Stefan Steinhoff
manfred reddig
Steffen knigge
《电力电子》
2005年第6期22-25,共4页
在200W连续导通模式功率因数佼正(PFC)系统中,新一代600V砷化镓(GaAs)肖特基二极管与硅和碳化硅(SiC)二极管比较,砷化镓,碳化硅在PFC系统中的损耗减少高达25%。由于砷化镓有较低的结电容,砷化镓相对碳化硅高的通态损耗被较低的MOSFET损...
在200W连续导通模式功率因数佼正(PFC)系统中,新一代600V砷化镓(GaAs)肖特基二极管与硅和碳化硅(SiC)二极管比较,砷化镓,碳化硅在PFC系统中的损耗减少高达25%。由于砷化镓有较低的结电容,砷化镓相对碳化硅高的通态损耗被较低的MOSFET损耗弥补了。和碳化硅技术相比,砷化镓有成本和可靠性优势。对于高频和高密度应用来说,新一代的砷化镓二极管是很有前景的。
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关键词
肖特基二极管
砷化镓
功率因素校正
高功率密度
一代
功率因数校正
连续导通模式
MOSFET
通态损耗
碳化硅
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职称材料
题名
用于高功率密度功率因素校正的新一代600V砷化镓肖特基二极管
1
作者
Stefan Steinhoff
manfred reddig
Steffen knigge
机构
IXYS Berlin GmbH
Institute of Power Electronics dept.of Electrical Engineering of University of Applied Sciences
Ferfinand-Braun-institute für Hchstfrequenztechnik
出处
《电力电子》
2005年第6期22-25,共4页
文摘
在200W连续导通模式功率因数佼正(PFC)系统中,新一代600V砷化镓(GaAs)肖特基二极管与硅和碳化硅(SiC)二极管比较,砷化镓,碳化硅在PFC系统中的损耗减少高达25%。由于砷化镓有较低的结电容,砷化镓相对碳化硅高的通态损耗被较低的MOSFET损耗弥补了。和碳化硅技术相比,砷化镓有成本和可靠性优势。对于高频和高密度应用来说,新一代的砷化镓二极管是很有前景的。
关键词
肖特基二极管
砷化镓
功率因素校正
高功率密度
一代
功率因数校正
连续导通模式
MOSFET
通态损耗
碳化硅
分类号
TN311.7 [电子电信—物理电子学]
TN304.23 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
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1
用于高功率密度功率因素校正的新一代600V砷化镓肖特基二极管
Stefan Steinhoff
manfred reddig
Steffen knigge
《电力电子》
2005
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