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用低温圆片键合实现传感器和微电子机械系统器件的集成和封装
被引量:
1
1
作者
Paul Lindner
Herwig Kirchberger
+2 位作者
markus wimplinger
Dr.Shari Farrens
Joshua Palensky
《电子工业专用设备》
2004年第3期42-45,共4页
集成化是传感器和微电子机械系统(MEMS)的发展方向,即将传感功能、逻辑电路和驱动功能集成在一块单芯片上。未来的系统芯片将能通过集成的传感器和逻辑电路收集并分析外界数据,将这些数据传输到中央处理器并产生必要的动作或反应。讨论...
集成化是传感器和微电子机械系统(MEMS)的发展方向,即将传感功能、逻辑电路和驱动功能集成在一块单芯片上。未来的系统芯片将能通过集成的传感器和逻辑电路收集并分析外界数据,将这些数据传输到中央处理器并产生必要的动作或反应。讨论了这种系统集成芯片对于封装和集成的要求,并提出一种能够满足这种要求的低温键合技术。同时这种低温键合技术还具有气密性封装、保留透明窗口等优点。
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关键词
低温键合
气密性封装
圆片级键合
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职称材料
2008年,TSV3-D封装将步入正轨
2
作者
markus wimplinger
《集成电路应用》
2008年第1期24-24,共1页
根据2006年国际半导体技术蓝图(ITRS)介绍,由于槽和孔结构深度、形状的多样化,以及清洗和化学机械抛光(CMP)引起的减薄效应,使得互连成为下一代制造技术的一大核心挑战。ITRS还提到:“传统的互连线等比例缩减技术已经不能满足...
根据2006年国际半导体技术蓝图(ITRS)介绍,由于槽和孔结构深度、形状的多样化,以及清洗和化学机械抛光(CMP)引起的减薄效应,使得互连成为下一代制造技术的一大核心挑战。ITRS还提到:“传统的互连线等比例缩减技术已经不能满足性能的要求。需要确定和寻找超越铜互连和低k技术的解决方案,将会需要加速的设计、封装方法以及新型互连技术。”
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关键词
封装方法
半导体技术
化学机械抛光
制造技术
缩减技术
互连技术
互连线
孔结构
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职称材料
CMOS图像传感器晶圆级封装工艺的进展
被引量:
4
3
作者
Thorsten Matthias
Gerald Kreind
+2 位作者
Viorel Dragoi
markus wimplinger
Paul Lindner
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第5期236-239,共4页
图像传感器已渗透到生活的方方面面,随着CMOS图像传感器(CIS)技术的出现,图像传感器领域取得了重大发现。近年来,CIS模块制造的晶圆级工艺与集成技术已经取得了巨大进步。随着人类首次采用由晶圆级工艺及集成技术制成BSICIS相机模块,以...
图像传感器已渗透到生活的方方面面,随着CMOS图像传感器(CIS)技术的出现,图像传感器领域取得了重大发现。近年来,CIS模块制造的晶圆级工艺与集成技术已经取得了巨大进步。随着人类首次采用由晶圆级工艺及集成技术制成BSICIS相机模块,以低成本将相机模块内置到手机及其它便携电子设备中也已成为现实。晶圆级技术通过提高设备的电学和光学性能以及模块的工艺性,为数字成像技术的未来发展铺平了道路。
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关键词
图像传感器
晶圆级封装
传感技术
光学性能
光刻胶
传感器组
纳米压印
数字成像技术
通孔
电子设备
原文传递
题名
用低温圆片键合实现传感器和微电子机械系统器件的集成和封装
被引量:
1
1
作者
Paul Lindner
Herwig Kirchberger
markus wimplinger
Dr.Shari Farrens
Joshua Palensky
机构
EV Group
出处
《电子工业专用设备》
2004年第3期42-45,共4页
文摘
集成化是传感器和微电子机械系统(MEMS)的发展方向,即将传感功能、逻辑电路和驱动功能集成在一块单芯片上。未来的系统芯片将能通过集成的传感器和逻辑电路收集并分析外界数据,将这些数据传输到中央处理器并产生必要的动作或反应。讨论了这种系统集成芯片对于封装和集成的要求,并提出一种能够满足这种要求的低温键合技术。同时这种低温键合技术还具有气密性封装、保留透明窗口等优点。
关键词
低温键合
气密性封装
圆片级键合
Keywords
Low temperature bonding
Hermetic sealing
Wafer level bonding
分类号
TP21 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
TN605 [电子电信—电路与系统]
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职称材料
题名
2008年,TSV3-D封装将步入正轨
2
作者
markus wimplinger
机构
Director of Business Unit Tech- nology Development and IP
出处
《集成电路应用》
2008年第1期24-24,共1页
文摘
根据2006年国际半导体技术蓝图(ITRS)介绍,由于槽和孔结构深度、形状的多样化,以及清洗和化学机械抛光(CMP)引起的减薄效应,使得互连成为下一代制造技术的一大核心挑战。ITRS还提到:“传统的互连线等比例缩减技术已经不能满足性能的要求。需要确定和寻找超越铜互连和低k技术的解决方案,将会需要加速的设计、封装方法以及新型互连技术。”
关键词
封装方法
半导体技术
化学机械抛光
制造技术
缩减技术
互连技术
互连线
孔结构
分类号
TN3 [电子电信—物理电子学]
TP393.03 [自动化与计算机技术—计算机应用技术]
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职称材料
题名
CMOS图像传感器晶圆级封装工艺的进展
被引量:
4
3
作者
Thorsten Matthias
Gerald Kreind
Viorel Dragoi
markus wimplinger
Paul Lindner
机构
EV Group
出处
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第5期236-239,共4页
文摘
图像传感器已渗透到生活的方方面面,随着CMOS图像传感器(CIS)技术的出现,图像传感器领域取得了重大发现。近年来,CIS模块制造的晶圆级工艺与集成技术已经取得了巨大进步。随着人类首次采用由晶圆级工艺及集成技术制成BSICIS相机模块,以低成本将相机模块内置到手机及其它便携电子设备中也已成为现实。晶圆级技术通过提高设备的电学和光学性能以及模块的工艺性,为数字成像技术的未来发展铺平了道路。
关键词
图像传感器
晶圆级封装
传感技术
光学性能
光刻胶
传感器组
纳米压印
数字成像技术
通孔
电子设备
分类号
TP212 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
TN305.94 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用低温圆片键合实现传感器和微电子机械系统器件的集成和封装
Paul Lindner
Herwig Kirchberger
markus wimplinger
Dr.Shari Farrens
Joshua Palensky
《电子工业专用设备》
2004
1
下载PDF
职称材料
2
2008年,TSV3-D封装将步入正轨
markus wimplinger
《集成电路应用》
2008
0
下载PDF
职称材料
3
CMOS图像传感器晶圆级封装工艺的进展
Thorsten Matthias
Gerald Kreind
Viorel Dragoi
markus wimplinger
Paul Lindner
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
北大核心
2013
4
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