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Deposition of In2-xFexO3 Films by Ultrafast Microwave Heating Technique
1
作者
Syed B. Qadri
Charbel Fahed
+3 位作者
Nadeemullah A. Mahadik
Heungsoo Kim
michael osofsky
Mulpuri V.Rao
《材料科学与工程（中英文A版）》
2011年第6期869-871,共3页
关键词
微波加热技术
氧化物薄膜
快速沉积
X-射线衍射
SI衬底
化学计量学
薄膜沉积
一一对应
下载PDF
职称材料
题名
Deposition of In2-xFexO3 Films by Ultrafast Microwave Heating Technique
1
作者
Syed B. Qadri
Charbel Fahed
Nadeemullah A. Mahadik
Heungsoo Kim
michael osofsky
Mulpuri V.Rao
机构
US Naval Research Laboratory
NRC/NRL Postoctoral Fellow
Electrical and Computer Engineering
出处
《材料科学与工程（中英文A版）》
2011年第6期869-871,共3页
关键词
微波加热技术
氧化物薄膜
快速沉积
X-射线衍射
SI衬底
化学计量学
薄膜沉积
一一对应
Keywords
Ultrafast microwave deposition, X-ray diffraction, magnetic semiconductors.
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
TS205.9 [轻工技术与工程—食品科学]
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1
Deposition of In2-xFexO3 Films by Ultrafast Microwave Heating Technique
Syed B. Qadri
Charbel Fahed
Nadeemullah A. Mahadik
Heungsoo Kim
michael osofsky
Mulpuri V.Rao
《材料科学与工程（中英文A版）》
2011
0
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职称材料
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