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更低温度下和重复再生时NiO/SiO_2催化剂上甲苯完全氧化反应（英文）
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作者 Sang Wook Han myung-geun jeong +2 位作者 Il Hee Kim Hyun Ook Seo Young Dok Kim 《Chinese Journal of Catalysis》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第11期1931-1940,共10页
采用原子层沉积法将NiO沉积到粒径约为100 mm、平均孔径为14 nm的中孔SiO_2颗粒的壳层(壳层厚度11 nm)区域,并分别在450和600°C进行热处理.将制得的这两种Ni/SiO_2样品用于催化甲苯分子吸附及其氧化为CO_2的反应中.结果发现,在450&... 采用原子层沉积法将NiO沉积到粒径约为100 mm、平均孔径为14 nm的中孔SiO_2颗粒的壳层(壳层厚度11 nm)区域,并分别在450和600°C进行热处理.将制得的这两种Ni/SiO_2样品用于催化甲苯分子吸附及其氧化为CO_2的反应中.结果发现,在450°C热处理的样品在甲苯吸附及其随后氧化为CO_2的反应中表现出更高的活性;当将该样品暴露在160°C甲苯蒸气中,然后加热到450°C时,排放出CO_2,而几乎没有甲苯脱附出来.这表明该催化剂可用于在200°C以下操作的、用于消除建筑物内有味气体的设备中,且该催化剂可以在450°C下经过热处理得到再生. 展开更多
关键词 多相催化 化学吸附 热脱附 中孔材料 甲苯氧化
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