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大粒径金刚石结构碳膜
1
作者
Yoshikatsu
namba
罗强
《微细加工技术》
1990年第2期87-90,共4页
金刚石薄膜由磁场偏转CH^+离子流淀积制成。对在薄膜的形成过程中混入中性粒子的可能性及对薄膜生成的影响做了检测。结果表明:(1)电离淀积过程中混入的中性粒子大约为30%,(2)由偏转淀积而生成的膜的表面结构,通过扫描电子显微镜(SEM)...
金刚石薄膜由磁场偏转CH^+离子流淀积制成。对在薄膜的形成过程中混入中性粒子的可能性及对薄膜生成的影响做了检测。结果表明:(1)电离淀积过程中混入的中性粒子大约为30%,(2)由偏转淀积而生成的膜的表面结构,通过扫描电子显微镜(SEM)照片观测发现,是相当平整的,(3)透射电镜(TEM)照片及发射电子衍射(TED)
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关键词
金刚石
薄膜
碳膜
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职称材料
题名
大粒径金刚石结构碳膜
1
作者
Yoshikatsu
namba
罗强
出处
《微细加工技术》
1990年第2期87-90,共4页
文摘
金刚石薄膜由磁场偏转CH^+离子流淀积制成。对在薄膜的形成过程中混入中性粒子的可能性及对薄膜生成的影响做了检测。结果表明:(1)电离淀积过程中混入的中性粒子大约为30%,(2)由偏转淀积而生成的膜的表面结构,通过扫描电子显微镜(SEM)照片观测发现,是相当平整的,(3)透射电镜(TEM)照片及发射电子衍射(TED)
关键词
金刚石
薄膜
碳膜
分类号
TN304.18 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
大粒径金刚石结构碳膜
Yoshikatsu
namba
罗强
《微细加工技术》
1990
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