活性染料染色及印花后的洗涤

描述了创新的后皂洗剂CyclanonXC-W的特点与应用。用于活性染料染色与印花洗涤的传统助剂主要是用来抵消硬水的不利影响。只有CyclanonXC-W能阻止分离后的染料对织物的再沾污。使用CyclanonXC-W后,几乎不再需要漂洗,节省了水、能量、时间和成本。

掩膜级测量为闪存设计预测成像质量

闪存不断推动着器件尺寸等比例缩小的进程,高数值孔径浸没式光刻使得45nm及以下技术节点成为可能。一些掩膜参数对于成像性能有很重要的影响,并且曝光前掩膜的空间成像可以用于定义成像质量。