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新型CD-SEM套刻法改进双沟道图形化CDU 被引量：1
1
作者 Ilan Englard rich piech +2 位作者 Liraz Gershtein Ram Peltinov Ofer Adan 《集成电路应用》 2008年第4期31-33,共3页
采用一种沟道内置沟道的套刻标记和自动工艺控制策略,双沟道图形化相关的CD均匀性问题可保持在具有量产价值的范围内。
关键词 双沟道 CDU 图形化 套刻 控制策略 均匀性 内置
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