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掩膜对不准测量用的电压对比度测试结构
1
作者
Oliver D.Patterson
Stephen R.Fox
roland hahn
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第3期136-141,共6页
由于目前最先进CMOS器件的尺寸非常小,对准要求变得极具挑战性。测量触点至栅极对准的方法涉及用SEM扫描触点阵列,每次与接地栅极的重叠部分数量不同。电压对比信号表明哪些触点正在触及栅极。把样品晶圆数据与光学对准数据进行了比较...
由于目前最先进CMOS器件的尺寸非常小,对准要求变得极具挑战性。测量触点至栅极对准的方法涉及用SEM扫描触点阵列,每次与接地栅极的重叠部分数量不同。电压对比信号表明哪些触点正在触及栅极。把样品晶圆数据与光学对准数据进行了比较。阐述了更充分比较二种技术的精度必须要做的后续工作。
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关键词
光学对准
触点
栅条
栅极
晶圆
掩膜
测试结构
电压
原文传递
题名
掩膜对不准测量用的电压对比度测试结构
1
作者
Oliver D.Patterson
Stephen R.Fox
roland hahn
机构
IBM semiconductor research and development center
KLA-Tencor Corporation
出处
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第3期136-141,共6页
文摘
由于目前最先进CMOS器件的尺寸非常小,对准要求变得极具挑战性。测量触点至栅极对准的方法涉及用SEM扫描触点阵列,每次与接地栅极的重叠部分数量不同。电压对比信号表明哪些触点正在触及栅极。把样品晶圆数据与光学对准数据进行了比较。阐述了更充分比较二种技术的精度必须要做的后续工作。
关键词
光学对准
触点
栅条
栅极
晶圆
掩膜
测试结构
电压
分类号
TB34-55 [一般工业技术—材料科学与工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
掩膜对不准测量用的电压对比度测试结构
Oliver D.Patterson
Stephen R.Fox
roland hahn
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
北大核心
2013
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