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运用互补性显微术在终极尺度上三维重构并分析同一个纳米级样品
1
作者
A.Grenier
R.Serra
+8 位作者
G Audoit
J.P.Barnes
D.Cooper
s.duguay
D.Blavette
N.Rolland
F Vurpillot
P.Morin
Pascal Gouraud
《中国集成电路》
2015年第8期54-58,79,共6页
运用两种不同的纳米尺度或原子尺度测量分析方法分析同一个样品,对完全掌握一种材料或产品的属性至关重要,这种优势互补的分析方法特别适用于测定MOSFET、FINFET等新一代纳米级晶体管的掺杂分布情况。本文综合电子断层扫描技术(ET)与...
运用两种不同的纳米尺度或原子尺度测量分析方法分析同一个样品,对完全掌握一种材料或产品的属性至关重要,这种优势互补的分析方法特别适用于测定MOSFET、FINFET等新一代纳米级晶体管的掺杂分布情况。本文综合电子断层扫描技术(ET)与原子探针层析技术(APT)两种表征方法,研究纳米级晶体管中硼原子空间分布特征。
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关键词
电子断层扫描(ET)
原子探针层析(APT)
CMOS器件
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题名
运用互补性显微术在终极尺度上三维重构并分析同一个纳米级样品
1
作者
A.Grenier
R.Serra
G Audoit
J.P.Barnes
D.Cooper
s.duguay
D.Blavette
N.Rolland
F Vurpillot
P.Morin
Pascal Gouraud
机构
Univ.Grenoble Alpes
GPM UMR
STMicroelectronics
出处
《中国集成电路》
2015年第8期54-58,79,共6页
基金
RechercheTechnologique de Base(RTB)和法国国家研究局APTITUDE项目(ANR-12-NANO-0001)
文摘
运用两种不同的纳米尺度或原子尺度测量分析方法分析同一个样品,对完全掌握一种材料或产品的属性至关重要,这种优势互补的分析方法特别适用于测定MOSFET、FINFET等新一代纳米级晶体管的掺杂分布情况。本文综合电子断层扫描技术(ET)与原子探针层析技术(APT)两种表征方法,研究纳米级晶体管中硼原子空间分布特征。
关键词
电子断层扫描(ET)
原子探针层析(APT)
CMOS器件
分类号
TN32 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
发文年
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1
运用互补性显微术在终极尺度上三维重构并分析同一个纳米级样品
A.Grenier
R.Serra
G Audoit
J.P.Barnes
D.Cooper
s.duguay
D.Blavette
N.Rolland
F Vurpillot
P.Morin
Pascal Gouraud
《中国集成电路》
2015
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